[實用新型]離子加速器注入裝置有效
| 申請號： | 201320605609.2 | 申請日： | 2013-09-28 |
| 公開（公告）號： | CN203827596U | 公開（公告）日： | 2014-09-10 |
| 發明（設計）人： | 王志軍;何源;劉魯北 | 申請（專利權）人： | 中國科學院近代物理研究所 |
| 主分類號： | H05H7/08 | 分類號： | H05H7/08 |
| 代理公司： | 蘭州振華專利代理有限責任公司 62102 | 代理人： | 張真 |
| 地址： | 730000 甘*** | 國省代碼： | 甘肅;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 離子 加速器 注入 裝置 | ||
1.一種離子加速器注入裝置，其特征在于包括有用于產生高流強的離子束流ECR離子源和第一螺線管與第二螺線管通過真空管道連接RFQ直線加速器和混合型離子加速裝置；所述的RFQ直線加速器包含真空腔桶和互為垂直的四個電極，電極的表面呈現波浪形狀的調制曲面；其中相對兩電極之間的距離為變間距，間距范圍為2mm-10mm；所述的混合型離子加速裝置，包括有在真空腔筒內設有互為垂直的四個T形板，多個漂移管通過漂移管支撐桿分別固連于兩個T形板之間；多個漂移管與真空腔筒在同一個中心線上；垂直高頻電四極透鏡相向設于漂移管之間，并固連于兩個垂直的T形板之間；水平高頻電四極透鏡相向設于漂移管之間，并固連于兩個水平的T形板之間；RFQ直線加速器和混合型離子加速裝置之間沒有傳輸線的匹配并通過法蘭連接。
2.如權利要求1所述的離子加速器注入裝置，其特征在于所述的ECR離子源，吸極引出高壓20KV-100KV，回旋頻率為2GHz-30GHz。
3.如權利要求1所述的離子加速器注入裝置，其特征在于所述的漂移管的長度為0.7-10cm；內徑為1.5cm～5cm，相鄰兩個漂移管之間的加速間隙距離為1-5cm。
4.如權利要求1所述的離子加速器注入裝置，其特征在于所述的垂直高頻電四極透鏡為中部凸起的馬鞍形，兩凸起之間的最小孔徑為1.5-4cm，所述的垂直高頻電四極透鏡長度為2cm～30cm；水平高頻電四極透鏡為凹下的馬鞍形，兩凹下之間的最大孔徑為2-6cm，所述的水平高頻電四極透鏡長度為2cm～30cm。
5.如權利要求1所述的離子加速器注入裝置，其特征在于所述的注入器的真空度為10-4-10-7Pa。
6.如權利要求1所述的離子加速器注入裝置，其特征在于所述的RFQ直線加速器和混合型離子加速裝置工作頻率在50-500MHz，混合型離子加速裝置的工作頻率為RFQ直線加速器的工作頻率的2倍。
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