[實用新型]一種螺旋渦流射流曝氣裝置

有效

• 申請號: 201320601106.8
• 申請日: 2013-09-27
• 公開（公告）號: CN203486961U
• 公開（公告）日: 2014-03-19
• 發明（設計）人: 楊慶賓
• 申請（專利權）人: 楊慶賓
• 主分類號: C02F3/02
• 分類號: C02F3/02;C02F7/00
• 代理公司: 濟南泉城專利商標事務所 37218
• 代理人: 李桂存

1.一種螺旋渦流射流曝氣裝置，其特征是：包括螺旋配水室（2）和螺旋配氣室（5）同軸水平依次套接，螺旋配水室（2）前端設有初級噴嘴（3），螺旋配氣室（5）前端設有二級噴嘴（6）；螺旋配水室（2）之上一側垂直設置有偏心進水管（1），其內壁外側沿切線位置連接螺旋配水室（2）內壁；螺旋配氣室（5）之上同側垂直設置有偏心進氣管（4），其內壁外側沿切線位置連接螺旋配氣室（5）內壁。

2.根據權利要求1所述的一種螺旋渦流射流曝氣裝置，其特征在于：偏心進水管（1）寬度為螺旋配水室（2）直徑的1/3至1/5。

3.根據權利要求1所述的一種螺旋渦流射流曝氣裝置，其特征在于：偏心進氣管（4）寬度為螺旋配氣室（5）直徑的1/3至1/5。

4.根據權利要求1所述的一種螺旋渦流射流曝氣裝置，其特征在于：初級噴嘴（3）頂端和二級噴嘴（6）頂端直徑之比介于5:6至1:2之間。