[實用新型]單晶硅片清洗裝置有效
| 申請號: | 201320588616.6 | 申請日: | 2013-09-23 |
| 公開(公告)號: | CN203508507U | 公開(公告)日: | 2014-04-02 |
| 發明(設計)人: | 牛龍;王文;童林劍;張斌;胡亞東;董典謨;樊帥 | 申請(專利權)人: | 陜西天宏硅材料有限責任公司 |
| 主分類號: | B08B7/04 | 分類號: | B08B7/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 712038 陜西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 單晶硅 清洗 裝置 | ||
1.單晶硅片清洗裝置,其特征在于,包括:
一進料槽,
一與進料槽順次連接的第一藥槽和第二藥槽,
以及一與第二藥槽連接的自來水溢流槽,
還包括一純水供水系統,所述純水供水系統包括一第一純水槽,一第二純水槽以及一第三純水槽,所述第一純水槽,第二純水槽以及第三純水槽相互連通,將通過第三純水槽、第二純水槽至第一純水槽的純水通過一溢流管通入純水溢流槽,
所述進料槽和自來水溢流槽均連接一自來水供水管,所述第一藥槽,第二藥槽,純水溢流槽,第二純水槽以及第三純水槽均連接一純水管。
2.根據權利要求1所述的單晶硅片清洗裝置,其特征在于:所述進料槽由一空氣鼓泡槽和一超聲槽構成。
3.根據權利要求1所述的單晶硅片清洗裝置,其特征在于:所述第二純水槽的進水管上安裝一進水控制閥。
4.根據權利要求1所述的單晶硅片清洗裝置,其特征在于:所述第三純水槽一側還設置一烘干箱。
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