[實用新型]用于環體中的周向流體分布的裝置有效
| 申請號: | 201320587621.5 | 申請日: | 2013-09-05 |
| 公開(公告)號: | CN203704027U | 公開(公告)日: | 2014-07-09 |
| 發明(設計)人: | M·巴蒂納 | 申請(專利權)人: | 通用電氣公司 |
| 主分類號: | F23R3/28 | 分類號: | F23R3/28 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 肖日松;嚴志軍 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 中的 流體 分布 裝置 | ||
1.一種用于環體中的周向流體分布的裝置,所述裝置能夠與進料供給管聯接,所述裝置包括:
多個入口,其排列在所述環體中并且接收來自所述進料供給管的流體;和
多個出口,其連接于所述環體并且從所述環體沿徑向向內輸送流體;
其中,所述入口將所述環體中的流體分配至所述出口,并且其中,所述入口和所述出口構造成使得所述環體中的流體靜壓力基本上是一致的。
2.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述入口相對于所述進料供給管沿周向偏移。
3.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,還包括擾流器,所述擾流器圍繞所述環體并軸向地沿著所述環體定位,所述擾流器使質量流動速率標準化,使得在所述多個出口之間的最大流動速率限定基本線性的廓線。
4.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,還包括戽斗,所述戽斗定位成在所述環體中鄰近所述出口,朝向流體流的上游或下游。
5.根據權利要求4所述的裝置,其特征在于,所述戽斗設置在所述環體中以控制流體流。
6.根據權利要求4所述的裝置,其特征在于,所述戽斗的深度或角度變化以控制流體流。
7.根據權利要求4所述的裝置,其特征在于,還包括擾流器,所述擾流器在所述環體中設置在各戽斗之間。
8.一種用于環體中的周向流分布的裝置,所述裝置能夠與進料供給管聯接,所述裝置包括:
多個入口,其在所述環體中并且接收來自所述進料供給管的流;
多個出口,其連接于所述環體并且從所述環體沿徑向向內輸送所述流,
其中,所述入口將所述環體中的流體分配至所述出口,并且其中,所述入口相對于所述進料供給管沿周向偏移,使得沿周向圍繞所述環體的靜壓力基本上是一致的;和
戽斗,其定位成在所述環體中鄰近所述出口,朝向流體流的上游或下游。
9.根據權利要求8所述的裝置,其特征在于,所述戽斗設置在所述環體中以控制流。
10.根據權利要求8所述的裝置,其特征在于,所述戽斗的深度或角度變化以控制流。
11.根據權利要求8所述的裝置,其特征在于,還包括擾流器,所述擾流器在所述環體中設置在各戽斗之間。
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