[實用新型]一種蒸鍍爐有效
| 申請號: | 201320583778.0 | 申請日: | 2013-09-22 |
| 公開(公告)號: | CN203513786U | 公開(公告)日: | 2014-04-02 |
| 發明(設計)人: | 陳海嬰 | 申請(專利權)人: | 和宏華進納米科技(上海)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24 |
| 代理公司: | 上海申新律師事務所 31272 | 代理人: | 竺路玲 |
| 地址: | 201500 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 蒸鍍爐 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種蒸鍍設備的技術領域,尤其涉及一種能夠對工件進行均勻蒸鍍的蒸鍍爐。
背景技術
蒸鍍是通過蒸鍍爐對鍍膜材料加熱使其氣化沉積在基體或工件,如手機殼體,在其表面以形成薄膜或涂層的工藝。理論上蒸鍍爐能夠在金屬、半導體、絕緣體甚至塑料、紙張、織物表面上沉積金屬、半導體、絕緣體、不同成分比的合金、化合物及部分有機聚合物等的薄膜。
但現有的蒸鍍爐對工件蒸鍍不均勻,容易造成蒸鍍完成的產品出現色差的情況。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種蒸鍍爐,以解決現有的蒸鍍爐對工件蒸鍍不均勻,容易造成蒸鍍完成的產品出現色差的問題。
為了實現上述目的,本實用新型采取的技術方案為:
一種蒸鍍爐,其中,包括:一蒸鍍爐爐體,所述蒸鍍爐爐體的內部為空腔;一與所述蒸鍍爐爐體樞設的蒸鍍爐爐門,所述蒸鍍爐爐門可打開或封閉所述蒸鍍爐爐體的所述空腔;所述蒸鍍爐爐體的所述空腔底部沿水平方向設有一轉料盤,所述轉料盤的中央沿豎直方向安裝一蒸鍍爐電極,所述轉料盤的外緣沿豎直方向均布若干用于懸掛工件的工件支架,每一所述工件支架包括一轉軸,所述轉軸沿豎直方向設置在所述轉料盤的外緣,所述轉料盤可轉動地帶動所述工件支架繞所述蒸鍍爐電極旋轉;所述轉料盤的底部還分別設置若干所述旋轉機構,每一所述工件支架與每一所述旋轉機構一一對應,所述轉料盤通過所述旋轉機構帶動所述工件支架繞其自身自轉。
上述的一種蒸鍍爐,其中,所述轉軸靠近上下兩端的位置分別套設一上連接部和一下連接部,所述上連接部和所述下連接部之間固設若干懸掛桿,每一所述懸掛桿從上至下設有若干用于懸掛工件的懸掛件。
上述的一種蒸鍍爐,其中,所述上連接部和所述下連接部均包括若干根連接桿,若干所述連接桿在其中央位置重合,并形成平面形狀,同時,相鄰的兩所述連接桿之間的角度相同;所述轉軸的下端貫穿所述下連接部的若干所述連接桿的中央,所述轉軸的上端貫穿所述上連接部的若干所述連接桿的中央。
上述的一種蒸鍍爐,其中,所述下連接部的每一所述連接桿的兩端分別通過兩所述懸掛桿與所述上連接部的一所述連接桿的兩端固定連接;并且所述下連接部的每一所述連接桿和所述上連接部的每一所述連接桿均開設若干用于連接所述懸掛桿的通孔。
上述的一種蒸鍍爐,其中,所述蒸鍍爐電極包括若干電極支撐桿、電極底座以及電極頂板;若干所述電極支撐桿沿豎直方向固設于所述電極底座和所述電極頂板之間,并且所述電極底座位于所述轉料盤的中央,所述轉料盤繞所述電極底座旋轉;每一所述電極支撐桿從上至下設有若干電極連接桿,相鄰的兩所述電極支撐桿的每一對電極連接桿之間設有電極絲。
上述的一種蒸鍍爐,其中,所述電極支撐桿的數量為兩根,每一所述電極支撐桿從上至下沿水平方向分別設有兩排若干所述電極連接桿,兩排所述電極連接桿分別朝向背對方向,并且兩所述電極支撐桿的相互靠近的每一對所述電極連接桿相互平行,同時,每一對所述電極連接桿之間位于同一高度。
上述的一種蒸鍍爐,其中,兩所述電極支撐桿的相互靠近的每一所述電極連接桿的頭部設有安裝平臺,每一所述電極絲的兩側位于兩所述電極連接桿的安裝頭部;每一所述電極連接桿的尾部彎折形成一彎折部,每一所述電極連接桿通過所述彎折部套設于所述電極支撐桿上。
上述的一種蒸鍍爐,其中,所述轉料盤的底部還包括一第一齒輪,所述第一齒輪與所述轉料盤同心,并且所述第一齒輪與若干所述旋轉機構驅動連接。
上述的一種蒸鍍爐,其中,每一所述旋轉機構包括:分別安裝在一第一轉軸下端的一第二齒輪和安裝在所述第一轉軸上端的一第三齒輪;安裝在一第二轉軸上的第四齒輪;安裝在一第三轉軸上的第五齒輪;所述第一轉軸、所述第二轉軸和所述第三轉軸分別與所述轉料盤的底部固定連接,所述第二齒輪與所述第一齒輪嚙合連接,所述第三齒輪與所述第四齒輪嚙合連接,所述第四齒輪與所述第五齒輪嚙合連接。
上述的一種蒸鍍爐,其中,每一所述旋轉機構的所述第三轉軸與每一所述工件支架的轉軸相連接。
本實用新型由于采用了上述技術,使之與現有技術相比具有的積極效果是:
(1)每一電極支撐桿從上至下以相同間隔設置若干電極連接桿,有效地提高安裝在電極連接桿上的電極絲的均勻分布性,使得工件懸掛于支架,轉料盤繞蒸鍍爐旋轉的時候,工件能夠均勻地蒸鍍。
(2)通過旋轉機構的使用,使得轉動轉料盤時,工件支架不僅能夠繞著蒸鍍爐電極旋轉,同時也能夠通過旋轉機構帶動工件支架繞自身自轉,有效地提高工件蒸鍍的均勻性。
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