[實(shí)用新型]一種對(duì)反應(yīng)爐爐蓋進(jìn)行升降和翻轉(zhuǎn)的機(jī)構(gòu)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320577197.6 | 申請(qǐng)日: | 2013-09-17 |
| 公開(公告)號(hào): | CN203534191U | 公開(公告)日: | 2014-04-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 樊志濱;陳依新;王勇飛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京思捷愛普半導(dǎo)體設(shè)備有限公司 |
| 主分類號(hào): | F27D1/18 | 分類號(hào): | F27D1/18;C23C16/00 |
| 代理公司: | 北京思海天達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11203 | 代理人: | 劉萍 |
| 地址: | 101312 北京市順義區(qū)天竺綜*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 反應(yīng)爐 進(jìn)行 升降 翻轉(zhuǎn) 機(jī)構(gòu) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型屬于半導(dǎo)體外延生長(zhǎng)設(shè)備領(lǐng)域,特別涉及到MOCVD反應(yīng)爐配套機(jī)構(gòu)。
背景技術(shù)
近年來(lái),LED生產(chǎn)技術(shù)不斷進(jìn)步,生產(chǎn)成本不斷降低,亮度不斷提高。以其能耗低、壽命長(zhǎng)、無(wú)污染、體積小等優(yōu)點(diǎn)得以迅猛發(fā)展。LED在室內(nèi)外顯示屏、交通燈、照明市場(chǎng)得到廣泛的應(yīng)用。隨著LED應(yīng)用市場(chǎng)發(fā)展越來(lái)越迅速,下游廠商對(duì)上游LED芯片需求越來(lái)越大。這就使上游廠商對(duì)其生產(chǎn)效率及成本有了較高的要求。
LED是一種將電能轉(zhuǎn)化成光能的摻有雜質(zhì)的半導(dǎo)體固體器件,它的結(jié)構(gòu)主要是PN結(jié)芯片、電極和光學(xué)系統(tǒng)組成。LED的生產(chǎn)工藝比較復(fù)雜,一般要經(jīng)過(guò)外延片制作、氮?dú)夥庋b、外延生長(zhǎng)、芯片前工藝、研磨切割、點(diǎn)測(cè)分選、封裝等主要步驟。其中外延生長(zhǎng)決定了LED發(fā)光顏色、發(fā)光亮度以及可靠性,因此外延生長(zhǎng)所使用的設(shè)備MOCVD是LED生產(chǎn)中的核心設(shè)備,從而提高M(jìn)OCVD的生產(chǎn)效率亦是重中之重。
現(xiàn)在市場(chǎng)大多數(shù)的MOCVD設(shè)備,襯底片放置主要由兩種,一種是外延面向上放置,另一種則是向下放置。襯底片外延面向上放置類型的反應(yīng)爐,為了防止?fàn)t蓋底部附著制程時(shí)產(chǎn)生的顆粒物會(huì)在爐蓋下部安裝一塊石英板,此石英板是需要定期更換的,但是大多此類型設(shè)備的反應(yīng)爐爐蓋只能向上垂直開啟,或者傾斜開啟,傾斜角度小于45度,為設(shè)備維護(hù)人員拆卸、安裝石英板以及清理爐蓋下表面帶來(lái)很大不便,延長(zhǎng)了設(shè)備維護(hù)時(shí)間,因爐蓋下表面垂直向下或傾斜小于45度角,石英板在操作過(guò)程中還存在掉落損害風(fēng)險(xiǎn)。襯底片倒置類型的反應(yīng)爐,襯底片一般是倒裝在爐蓋下表面的,同樣,大多此類型設(shè)備的反應(yīng)爐爐蓋只能向上垂直開啟,或者傾斜開啟,傾斜角度小于45度,操作人員取片、裝片很不方便,耗費(fèi)時(shí)間,并且亦存在襯底片掉落的風(fēng)險(xiǎn)。兩種類型的反應(yīng)爐爐蓋開啟方式,都影響了設(shè)備的有效制程時(shí)間,降低了設(shè)備生產(chǎn)效率,而且存在成本損失的風(fēng)險(xiǎn)。
發(fā)明內(nèi)容
為了解決由上述原因?qū)е碌纳a(chǎn)效率受到影響,降低成本損失風(fēng)險(xiǎn),本實(shí)用新型提出了一種對(duì)反應(yīng)爐爐蓋進(jìn)行升降和翻轉(zhuǎn)的機(jī)構(gòu)。
實(shí)現(xiàn)上述有益效果的技術(shù)方案為,一種對(duì)反應(yīng)爐爐蓋進(jìn)行升降和翻轉(zhuǎn)的機(jī)構(gòu),包括升降氣缸1、安裝在機(jī)罩2內(nèi)部的伺服電機(jī)3、蝸輪蝸桿減速機(jī)4,旋轉(zhuǎn)軸6通過(guò)聯(lián)軸器7與爐蓋8相連接;
所述的升降氣缸1安裝在爐體9一側(cè),氣缸活塞桿上端連接機(jī)罩2,安裝在機(jī)罩2內(nèi)部的伺服電機(jī)3帶動(dòng)蝸輪蝸桿減速機(jī)4,蝸輪蝸桿減速機(jī)4的旋轉(zhuǎn)軸6通過(guò)聯(lián)軸器7與爐蓋8相連接;爐體9的兩側(cè)結(jié)構(gòu)為對(duì)稱布置結(jié)構(gòu);
通過(guò)氣缸活塞桿的升降,機(jī)罩2、伺服電機(jī)3、蝸輪蝸桿減速機(jī)4連同爐蓋8進(jìn)行同時(shí)升降,并在伺服電機(jī)3帶動(dòng)下,通過(guò)蝸輪蝸桿減速機(jī)4,將爐蓋8進(jìn)行翻轉(zhuǎn)。
理論上,爐蓋可在零度至180度之間翻轉(zhuǎn)。同時(shí),機(jī)罩和安裝在機(jī)罩外部的磁流體的作用是防止伺服電機(jī)和蝸輪蝸桿減速機(jī)在運(yùn)行過(guò)程中產(chǎn)生污染物而對(duì)已打開爐蓋的反應(yīng)爐內(nèi)部造成影響。
翻轉(zhuǎn)后,爐蓋下表面垂直向上或成仰角向上,操作者可以直接觀看到操作面,進(jìn)行石英板或襯底的更換工作,操作靈便,提高了生產(chǎn)效率,由于此時(shí)石英板或襯底位于上方,降低了其掉落損壞的風(fēng)險(xiǎn)。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型的一種實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖;
1.升降氣缸?????????????????2.機(jī)罩?????????????3.伺服電機(jī)
4.蝸輪蝸桿減速機(jī)???????????5.磁流體???????????6.旋轉(zhuǎn)軸
7.聯(lián)軸器???????????????????8.爐蓋?????????????9.爐體
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步說(shuō)明。
結(jié)合圖1,本實(shí)用新型的一種實(shí)施方式。一種對(duì)反應(yīng)爐爐蓋進(jìn)行升降和翻轉(zhuǎn)的機(jī)構(gòu),包括升降氣缸1、安裝在機(jī)罩2內(nèi)部的伺服電機(jī)3、蝸輪蝸桿減速機(jī)4,安裝在機(jī)罩4外部的磁流體5,旋轉(zhuǎn)軸6通過(guò)聯(lián)軸器7與爐蓋8相連接。
本實(shí)施例中,所述的升降氣缸1安裝在爐體9旁,氣缸活塞桿上端連接機(jī)罩2,通過(guò)氣缸活塞桿的升降,對(duì)機(jī)罩2、伺服電機(jī)3、蝸輪蝸桿減速機(jī)4連同爐蓋8進(jìn)行同時(shí)升降,并在伺服電機(jī)3帶動(dòng)下,通過(guò)蝸輪蝸桿減速機(jī)4,將爐蓋8進(jìn)行翻轉(zhuǎn)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于北京思捷愛普半導(dǎo)體設(shè)備有限公司,未經(jīng)北京思捷愛普半導(dǎo)體設(shè)備有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320577197.6/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 請(qǐng)求沒有進(jìn)行IMS注冊(cè)的用戶進(jìn)行注冊(cè)的方法
- 對(duì)要進(jìn)行紋理操作的像素進(jìn)行分組
- 對(duì)餐盤進(jìn)行溫度調(diào)節(jié)和進(jìn)行分配的獨(dú)立小車
- 對(duì)圖像進(jìn)行編碼
- 對(duì)任務(wù)進(jìn)行調(diào)度
- 對(duì)任務(wù)進(jìn)行調(diào)度
- 蛋糕(甜蜜進(jìn)行時(shí))
- 對(duì)定位輔助數(shù)據(jù)進(jìn)行分級(jí)和分組以進(jìn)行廣播
- 對(duì)物體進(jìn)行分離和定向以進(jìn)行供料
- 對(duì)工件進(jìn)行評(píng)價(jià)以進(jìn)行加工的方法





