[實用新型]TFT陣列基板、顯示設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320566355.8 | 申請日: | 2013-09-12 |
| 公開(公告)號: | CN203481231U | 公開(公告)日: | 2014-03-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 姜曉輝;張家祥 | 申請(專利權(quán))人: | 北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/12 | 分類號: | H01L27/12;H01L23/50;G02F1/1368 |
| 代理公司: | 北京同達(dá)信恒知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11291 | 代理人: | 黃志華 |
| 地址: | 100176 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | tft 陣列 顯示 設(shè)備 | ||
1.一種TFT陣列基板,其特征在于,包括:
基板、設(shè)置在基板上的柵極層、設(shè)置在柵極層上的柵絕緣層以及設(shè)置在所述柵絕緣層上的有源層,其中:
所述柵絕緣層位于有源層下方的區(qū)域和所述柵絕緣層的其它區(qū)域是通過兩次沉積形成的。
2.如權(quán)利要求1所述的TFT陣列基板,其特征在于,所述柵絕緣層通過兩次沉積形成包括:
通過一次半色調(diào)或灰階掩模工藝形成柵極層和有源層,其中,有源層區(qū)域下方保留有柵絕緣層材料,有源層區(qū)域上方保留有掩膜圖案;
然后再次沉積柵絕緣層材料,剝離剩余的掩膜圖案。
3.如權(quán)利要求1所述的TFT陣列基板,其特征在于,還包括:
設(shè)置在有源層及柵絕緣層上的像素電極,以及設(shè)置在柵極層上的柵絕緣層過孔,其中,所述像素電極和所述柵絕緣層過孔通過一次構(gòu)圖形成。
4.一種顯示設(shè)備,其特征在于,包括如權(quán)利要求1-3任一所述的TFT陣列基板。
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點的熱電元件的;包括有熱磁組件的
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗設(shè)備、驗證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





