[實用新型]流體調節器以及用于流體調節器的密封閥盤組件

有效

• 申請號: 201320560838.7
• 申請日: 2013-09-06
• 公開（公告）號: CN203532757U
• 公開（公告）日: 2014-04-09
• 發明（設計）人: J·S·梅維厄斯
• 申請（專利權）人: 艾默生過程管理調節技術公司
• 主分類號: F16K1/00
• 分類號: F16K1/00;F16K1/36;F16K1/46;F16K31/126
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 鄭立柱

技術領域

本實用新型大體上涉及一種用于流體調節器或其它類型流動控制閥的密封閥盤組件。

背景技術

典型的氣體分配系統供給氣體的壓強可根據多個因素改變。這些因素可包括例如對系統、氣候、供給源和／或其它因素的需求。然而，大多數裝備了諸如熔爐、烤爐等氣體裝置的終端用戶設施需要將氣體根據預定的壓強并且以處于或低于終端用戶設施的最大容量進行輸送。因此，過程流體調節器在這些分配系統中實施，用以確保所輸送的氣體滿足終端用戶設施的需求。過程流體調節器還被用來調節液體的輸送以實現類似的功能。

常見的過程流體調節器包括調節器本體、控制部件和致動器。所述調節器本體限定流體流動通路、流體入口和流體出口。孔口沿著在流體入口和流體出口之間的流體流動通路可操作地設置在本體中。流體流動通路從流體入口穿過孔口延伸到流體出口。控制部件移動來調節流體穿過孔口沿著流體流動通路的流動。控制部件在閉合位置密封接合由孔口限定的閥座，并在打開位置與所述閥座分隔開。通過本領域內熟知的方式，致動器可操作地連接到調節器本體和控制部件，以響應于流體流動通路中的壓強變化來控制所述控制部件相對于孔口的位置，從而例如在流體出口處將過程流體的壓強維持在預定的范圍內。

圖1示出了過程流體調節器中的典型控制部件10和孔口12的單獨的放大細節圖。孔口12通常具有圓管形式并被固定到調節器本體14，例如，通過外螺紋16接合調節器本體14中的互補的內螺紋17。孔口12圍繞并形成流體必須穿過的孔18。閥座20沿著孔口12的上邊緣或環形唇緣限定。控制部件10支撐密封閥盤組件，密封閥盤組件包括由諸如橡膠等彈性密封材料制成的密封閥盤22，其被支撐在閥盤殼體24中，閥盤殼體24可由例如控制部件10的底端限定。(例如上、下、左、右等方向修飾詞僅用來便于相對附圖參考，而并非限制本公開的范圍)。密封閥盤22包括安裝部25，安裝部25優選具有限定中間孔的圓環形狀。密封閥盤22可選地包括橫越中間孔延伸的中間腹板或閥盤。然而，在圖中所示的示例性設置中，密封閥盤22并不包括中間腹板。閥盤殼體24包括相對閥座20對準的凹槽形式的安置部27。安置部27具有平坦的矩形輪廓。密封閥盤22的安裝部25也具有與安置部27互補的平坦的矩形截面。安裝部25緊緊地安裝到安置部27中，使得密封閥盤22被設置成在控制部件10轉換到鎖定位置時密封接合閥座20，鎖定位置即控制部件10的極端或最大閉合位置，其完全阻止流體流動穿過孔18并由此穿過調節器本體。

如圖2中放大細節圖最佳所示，閥盤殼體24的安置部27具有由第一側壁26、第二側壁28和后壁30形成的矩形橫截面。第一側壁26、第二側壁28中的每一個從閥盤殼體24的端面32處的第一端延伸到與端面32向內隔開的第二端。后壁30從第一側壁26的第二端延伸到第二側壁28的第二端。側壁26、28垂直于端面32，后壁30垂直于側壁26、28中的每一個。密封閥盤22的安裝部25具有安裝到閥盤殼體24中的相似矩形輪廓、密封閥盤22還包括密封接合閥座20的密封表面34。密封表面34具有平坦表面。安裝部25互補于安置部27，具有通過側壁38、40連接到平坦的密封表面34的平坦端壁36。安裝部25的側壁38、40和端壁36分別緊靠安置部27的側壁26、28和后壁30。

當閥座20在鎖定位置將密封閥盤22的安裝部25壓縮并變形到安置部27時，密封閥盤22不再是平坦的。而是，如箭頭P所示，密封閥盤22在安置部27中橫越安裝部25的矩形橫截面輪廓不均衡地變形。橫越安裝部25的不均勻或不一致的壓縮可導致實現鎖定位置所需的致動力比較大。

實用新型內容

為了解決現有技術中存在的不均勻或不一致的壓縮導致實現鎖定位置所需的致動力比較大的問題，本實用新型提供一種流體調節器及其密封閥盤組件。

用于例如流體調節器等流動控制閥的密封閥盤組件，根據本公開的一些方面包括閥盤殼體和密封閥盤，所述閥盤殼體具有帶有凹拱形輪廓的安置部，所述密封閥盤具有容納在所述安置部中的安裝部。所述密封閥盤具有用于接合閥座的密封表面。在一些設置中，所述安置部的凹拱形輪廓可提供橫跨所述密封閥盤的輪廓的比現有技術的平坦或矩形輪廓更均勻的壓縮。