[實用新型]一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320550447.7 | 申請日： | 2013-09-05 |
| 公開（公告）號： | CN203472228U | 公開（公告）日： | 2014-03-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 董明;孟怡敏;白留森;孫震;潘其真 | 申請（專利權(quán)）人： | 洛陽新晶潤工程玻璃有限公司 |
| 主分類號： | B32B17/06 | 分類號： | B32B17/06;B32B33/00;C03C17/36 |
| 代理公司： | 北京中原華和知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11019 | 代理人： | 壽寧;張華輝 |
| 地址： | 471003 河南省*** | 國省代碼： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 提高 耐高溫 輻射 鍍膜 玻璃 | ||
1.一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃,其特征在于包括：玻璃基片（1）、氮化硅膜層（2）、鎳鉻膜層（3）、銀膜層（4）、鎳鉻膜層（5）、氮化硅膜層（6）；其中：?
在所述玻璃基片（1）上依次設(shè)置有所述氮化硅膜層（2）、所述鎳鉻膜層（3）、所述銀膜層（4）、所述鎳鉻膜層（5）、所述氮化硅膜層（6）。?
2.如權(quán)利要求1所述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃,其特征在于所述氮化硅膜層設(shè)置到玻璃表面為第一層膜，厚度為39納米-40納米。?
3.如權(quán)利要求1所述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃,其特征在于所述鎳鉻膜層設(shè)置到氮化硅表面為第二層膜，厚度為1納米-1.1納米。?
4.如權(quán)利要求1所述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃,其特征在于所述銀膜層設(shè)置到鎳鉻表面為第三層膜，厚度為9納米-10納米。?
5.如權(quán)利要求1所述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃,其特征在于所述鎳鉻膜層設(shè)置到銀表面為第四層膜，厚度為1納米-1.1納米。?
6.如權(quán)利要求1所述的一種提高耐高溫低輻射鍍膜玻璃,其特征在于所述氮化硅膜層設(shè)置到鎳鉻表面為第五層膜，厚度為42納米-50納米。?
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