[實(shí)用新型]解離裝置及具有該解離裝置的鎢金屬化學(xué)氣相沉積設(shè)備有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320548105.1 | 申請(qǐng)日： | 2013-09-03 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN203613260U | 公開（公告）日： | 2014-05-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 王劍;張昌兵 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 和艦科技（蘇州）有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C23C16/44 | 分類號(hào)： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人： | 陳小雯 |
| 地址： | 215025 江*** | 國(guó)省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 解離 裝置 具有 金屬 化學(xué) 沉積 設(shè)備 | ||
1.一種解離裝置，設(shè)于鎢金屬化學(xué)氣相沉積設(shè)備中，該鎢金屬化學(xué)氣相沉積設(shè)備具有與該解離裝置連通的反應(yīng)室，其特征在于，該解離裝置包括：?
解離腔，通入有三氟化氮?dú)怏w；?
孔板，設(shè)置于該解離腔的開口處，在該孔板上具有一開孔，用于通入微波，將該三氟化氮?dú)怏w解離為氟離子，用于與該反應(yīng)室內(nèi)殘余的鎢反應(yīng)，其中該反應(yīng)的結(jié)束時(shí)間與該開孔的面積成反比。?
2.如權(quán)利要求1所述的解離裝置，其特征在于，該開孔為圓形孔。?
3.如權(quán)利要求2所述的解離裝置，其特征在于，該圓形孔的直徑d為4.5～5.5cm。?
4.如權(quán)利要求3所述的解離裝置，其特征在于，該圓形孔的直徑d為5.1cm。?
5.如權(quán)利要求1所述的解離裝置，其特征在于，該開孔為橢圓形孔或多邊形孔。?
6.如權(quán)利要求5所述的解離裝置，其特征在于，該多邊形孔為長(zhǎng)方形孔。?
7.如權(quán)利要求5所述的解離裝置，其特征在于，該多邊形孔為方形孔。?
8.一種鎢金屬化學(xué)氣相沉積設(shè)備，其特征在于，該鎢金屬化學(xué)氣相沉積設(shè)備具有權(quán)利要求1-7其中之一所述的解離裝置。?
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于和艦科技（蘇州）有限公司，未經(jīng)和艦科技（蘇州）有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320548105.1/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆，例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上，例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
