[實(shí)用新型]一種用于單晶爐重?fù)戒R雜質(zhì)的揮發(fā)器裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320535907.9
• 申請(qǐng)日: 2013-08-30
• 公開（公告）號(hào): CN203474955U
• 公開（公告）日: 2014-03-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 任丙彥;黃永恩;張學(xué)強(qiáng);范全東
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 寧晉賽美港龍電子材料有限公司
• 主分類號(hào): C30B15/04
• 分類號(hào): C30B15/04;C30B29/06
• 代理公司: 石家莊冀科專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 13108
• 代理人: 李羨民;周曉萍

1.一種用于單晶爐重?fù)戒R雜質(zhì)的揮發(fā)器裝置，其特征在于，它包括高壓桶（4）和位于高壓桶內(nèi)的載料舟（6），所述高壓桶外廓為圓柱形，高壓桶為中空結(jié)構(gòu)，其頂部封閉、底部為通透的環(huán)形平面，高壓桶內(nèi)設(shè)有掛臺(tái)，所述載料舟懸掛在掛臺(tái)處。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于單晶爐重?fù)戒R雜質(zhì)的揮發(fā)器裝置，其特征在于，所述高壓桶（4）的底部設(shè)有數(shù)個(gè)氣體通道（8）。?

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的用于單晶爐重?fù)戒R雜質(zhì)的揮發(fā)器裝置，其特征在于，所述氣體通道（8）沿高壓桶底部均布，氣體通道為4-8個(gè)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于單晶爐重?fù)戒R雜質(zhì)的揮發(fā)器裝置，其特征在于，所述各氣體通道（8）的高度為10-15毫米，氣體通道的寬度為5-10毫米。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的用于單晶爐重?fù)戒R雜質(zhì)的揮發(fā)器裝置，其特征在于，所述高壓桶（4）頂部設(shè)有梯形桶系，桶系（3）的中部設(shè)有連接孔（2），連接孔與鋼絲繩（1）連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的用于單晶爐重?fù)戒R雜質(zhì)的揮發(fā)器裝置，其特征在于，所述掛臺(tái)（5）處設(shè)有掛槽（5-1），所述載料舟（6）上對(duì)稱設(shè)置舟耳（6-1），舟耳與掛槽匹配掛合。