[實(shí)用新型]一種光學(xué)擴(kuò)散膜有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320535832.4 | 申請(qǐng)日： | 2013-08-30 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN203414611U | 公開（公告）日： | 2014-01-29 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 鐘國(guó)倫;李哲;劉紅兵;方振華;孟凡偉 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 浙江元泰特種膜有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G02B5/02 | 分類號(hào)： | G02B5/02 |
| 代理公司： | 寧波市天晟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 33219 | 代理人： | 張文忠 |
| 地址： | 315400 浙江省寧波市余*** | 國(guó)省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 光學(xué) 擴(kuò)散 | ||
1.一種光學(xué)擴(kuò)散膜，包括有基材層(1)，其特征是：所述的基材層(1)的上表面涂覆形成光學(xué)擴(kuò)散層(2)，該基材層(1)的下表面涂有防粘接層(3)，所述的光學(xué)擴(kuò)散層(2)的上表面凸起形成上凸塊(21)，所述的防粘接層(3)的下表面向下凸出形成下凸塊(31)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)擴(kuò)散膜，其特征是:所述的光學(xué)擴(kuò)散層(2)內(nèi)包含第一PMMA粒子(4)而向上凸起形成上凸塊(21)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種光學(xué)擴(kuò)散膜，其特征是:所述的第一PMMA粒子(4)的第一粒徑(R)為15微米至40微米。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種光學(xué)擴(kuò)散膜，其特征是:所述的光學(xué)擴(kuò)散層(2)的第一厚度(H)為所述第一粒徑(R)的1/2至4/5。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)擴(kuò)散膜，其特征是:所述的防粘接層(3)內(nèi)包含第二PMMA粒子(6)而向下凸出形成下凸塊(31)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種光學(xué)擴(kuò)散膜，其特征是:所述的第二PMMA粒子(6)的第二粒徑(r)為1微米至5微米。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種光學(xué)擴(kuò)散膜，其特征是:所述的防粘接層(3)的第二厚度(h)為所述第二粒徑(r)的2/5至3/5。
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