[實用新型]基于光子晶體的RF-MEMS開關有效
| 申請號: | 201320529312.2 | 申請日: | 2013-08-28 |
| 公開(公告)號: | CN203398032U | 公開(公告)日: | 2014-01-15 |
| 發明(設計)人: | 宋明歆;吳蕊 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱理工大學 |
| 主分類號: | H01H59/00 | 分類號: | H01H59/00 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109 | 代理人: | 張宏威 |
| 地址: | 150080 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 光子 晶體 rf mems 開關 | ||
1.基于光子晶體的RF-MEMS開關,其特征在于,它包括硅襯底(1)、二氧化硅層(2)、兩個Al電極(3)、介質層(4)、金屬電極(5)和傳輸線(6);硅襯底(1)位于最下端,二氧化硅層(2)完全覆蓋在硅襯底(1)的上表面上;二氧化硅層(2)的上表面的兩側分別覆有一個Al電極(3);金屬電極(5)為n型,金屬電極(5)的兩端安裝在Al電極(3)的上表面上;介質層(4)覆在二氧化硅層(2)的上表面的中間,介質層(4)與二氧化硅層(2)的寬相同,介質層(4)與二氧化硅層(2)的中心重合;二氧化硅層(2)和介質層(4)的中間覆有傳輸線(6);
所述介質層(4)為光子晶體結構,該光子晶體結構包括Si3N4介質層和SiO2介質層,并且Si3N4介質層和SiO2介質層并行交替排列。
2.根據權利要求1所述基于光子晶體的RF-MEMS開關,其特征在于,Si3N4介質層和SiO2介質層并行交替排列,所述Si3N4介質層的寬度為25μm。
3.根據權利要求1所述基于光子晶體的RF-MEMS開關,其特征在于,Si3N4介質層和SiO2介質層并行交替排列,所述SiO2介質層的寬度為25μm。
4.根據權利要求1所述基于光子晶體的RF-MEMS開關,其特征在于,所述金屬電極(5)為n型,兩端為Al柱,上面懸掛的Al梁能夠沿著Al柱上下移動。
5.根據權利要求1所述基于光子晶體的RF-MEMS開關,其特征在于,所述傳輸線(6)為CPW共面波導。
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