[實用新型]一種單面單留邊鋁鋅金屬化薄膜

有效

• 申請號: 201320519421.6
• 申請日: 2013-08-23
• 公開（公告）號: CN203456293U
• 公開（公告）日: 2014-02-26
• 發明（設計）人: 汪祥久
• 申請（專利權）人: 昆山泓電隆泰電子材料有限公司
• 主分類號: H01G4/008
• 分類號: H01G4/008;H01G4/32
• 代理公司: 南京蘇科專利代理有限責任公司 32102
• 代理人: 陳忠輝

技術領域

本實用新型涉及一種電容器生產基材，尤其涉及一種電容器制造所用的新型內芯膜材。

背景技術

隨著電子工業的飛速發展，電容器作為一種應用極為廣泛的電子元器件，其產品用量也極大。因此對電容器生產制造的產能提出了更高的要求。從電容器的內芯結構來看，它是由薄膜按照電容器電氣特性選擇不同繞卷結構制成的。因此，為提高電容器產品的性能，勢必從該內芯的薄膜本身結構尋求改進，以滿足電容器各種應用的電氣性能要求。

從電容器用金屬化薄膜的工藝參數來看：金屬化薄膜中的金屬鍍膜是在真空鍍膜機內金屬蒸汽形成的，涂層厚度很薄，通常只有幾十個納米，直接測量難度較大。目前大多廠家一般通過測量方阻值或電流值來間接反映金屬層的厚度，方阻的單位為Ω/□，英譯為Resistance?square。方阻就是方塊電阻，指一個同長同寬（也就是一個正方形）的條件下的金屬化薄膜鍍層表面邊到邊之間的電阻。方塊電阻有一個特性，即任意大小的正方形邊到邊的電阻都是一樣的，不管邊長是1m還是1mm，它們的方阻都是一樣，只要測試電極導電區域無法形成正方形的測試值都會產生嚴重誤差。本創作金屬化薄膜的性能指標衡量均以理想測量的方阻衡量。

發明內容

本實用新型的目的旨在提出一種單面單留邊鋁鋅金屬化薄膜。

本實用新型的上述目的，將通過以下技術方案得以實現：一種單面單留邊鋁鋅金屬化薄膜，作為電容器的內芯膜材，其特征在于：所述薄膜由絕緣基膜和其上一體鍍覆的鋁鋅復合金屬膜構成，且絕緣基膜在寬度方向上的一端設有留邊，所述留邊和鋁鋅復合金屬膜的寬度之和與絕緣基膜的寬度相等。

進一步地，所述鋁鋅復合金屬膜在異于留邊的另一端設有加厚層，且加厚層的寬度大于留邊的寬度。

進一步地，所述絕緣基膜為聚丙烯基膜或聚酯基膜之一。

應用本實用新型的單面單留邊鋁鋅金屬化薄膜，其技術優點表現為：該金屬化薄膜采用鋁鋅復合的金屬鍍膜，能有效防止交流條件下的電化學腐蝕和相對耐壓，適于調整電容器的耐壓、脈沖、dv/dt等電氣特性。并且該金屬化薄膜的規格多選和工藝偏差可控，提高了電容器成品的性能穩定性。

附圖說明

圖1是本實用新型金屬化薄膜一優選實施例的截面結構示意圖。

圖2是本實用新型金屬化薄膜另一實施例的截面結構示意圖。

具體實施方式

以下便結合實施例附圖，對本實用新型的具體實施方式作進一步的詳述，以使本實用新型技術方案更易于理解、掌握。本實用新型針對電容器不斷增加的生產需求和性能提升要求，對該電容器的內芯膜材進行改良性研究。

實施例一

如圖1所示，是本實用新型金屬化薄膜一優選實施例的截面結構示意圖。從圖示可見該薄膜由絕緣基膜1和其上一體鍍覆的鋁鋅復合金屬膜21構成，且絕緣基膜1在寬度方向上的一端設有留邊3，該留邊3和鋁鋅復合金屬膜21的寬度之和與絕緣基膜1的寬度W相等。而且該鋁鋅復合金屬膜21在異于留邊3的另一端設有加厚層4，且加厚層4的寬度b大于留邊3的寬度B。

上述留邊3旨在保障電容器卷繞中上下兩層金屬化薄膜間有一定的絕緣強度。但留邊的寬度選擇具有一定的范圍，太大會減小電容的有效面積導致成本浪費，太小會使電容器耐高壓的安全距離不足、容易爬電產生飛弧。

上述非加厚的鋁鋅復合金屬膜形成電容器的極板并具有良好的自愈性。這是一個形成電容量和保持電容器電氣特性的一個最關鍵的區域，它應保證合適的金屬成分比例，防止交流條件下的電化學腐蝕，同時可以提高電容器的相對耐壓，選擇合適的金屬鍍層同樣可以改變電容器耐壓、脈沖、dv/dt等電氣特性。

上述加厚層4用于電容器后續生產工藝中與噴金層可以形成良好接觸，能有效減低接觸電阻，提高電容器的耐大電流沖擊的能力，可參照b=（B+2mm）±1mm。而且在加厚層與非加厚層之間采用漸變方阻可提高產品的電氣特性。

實施例二

如圖2所示，是本實用新型金屬化薄膜另一實施例的截面結構示意圖。從圖示可見與實施例一相似，惟區別在該實施例中省卻了加厚層4，僅以帶留邊3的等厚度鋁鋅復合金屬膜21作為絕緣基膜1表層結構。該實施例金屬化薄膜結構更簡化，生產更便利。

需要說明的是，上述單面單留邊鋁鋅金屬化薄膜中，絕緣基膜1可以是聚丙烯基膜，例如德國創斯普Treofan?PHD型BOPP基膜；也可以是聚酯基膜，例如韓國SKC?SC42型PET基膜。