[實用新型]一種硅光電二極管有效
| 申請號: | 201320511500.2 | 申請日: | 2013-08-20 |
| 公開(公告)號: | CN203406311U | 公開(公告)日: | 2014-01-22 |
| 發明(設計)人: | 崔峰敏 | 申請(專利權)人: | 傲迪特半導體(南京)有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/103 | 分類號: | H01L31/103;H01L31/0352 |
| 代理公司: | 江蘇致邦律師事務所 32230 | 代理人: | 樊文紅 |
| 地址: | 210034 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光電二極管 | ||
1.一種硅光電二極管,低摻雜的正方體N型硅晶片上設有高摻雜的P型硅層,形成P+N結,所述高摻雜的P型硅層為圓角長方體,所述低摻雜的正方體N型硅晶片的外周設有高摻雜的N型硅環,高摻雜的N型硅環和高摻雜的P型硅層之間隔著低摻雜的N型硅層,其特征是,所述高摻雜的P型硅層厚度為200±5μm?,P型硅層上表面設有氮化硅膜,在P型硅層中心部位的氮化硅膜上開有圓形接觸孔,接觸孔內貼附有金屬AL作為陽極,N型硅晶片的背面積淀金屬Au膜作為陰極;所述低摻雜的正方體N型硅晶片邊長為0.61mm,厚度為275-285μm,電阻率為1200-4000Ω·cm。
2.根據權利要求1所述的硅光電二極管,其特征是,所述金屬AL的厚度為2?,所述金屬Au膜的厚度為0.1?。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





