[實(shí)用新型]真空鍍膜用可移動(dòng)式磁力裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320510144.2
• 申請(qǐng)日: 2013-08-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN203419979U
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-02-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 馮新偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇津通先鋒光電顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 常州市維益專利事務(wù)所 32211
• 代理人: 王凌霄

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種真空鍍膜用可移動(dòng)式磁力裝置。

背景技術(shù)

目前行業(yè)內(nèi)真空鍍膜常用的永磁鐵一般均安裝在冷卻水槽內(nèi)，位置固定不可移動(dòng)，由于永磁鐵產(chǎn)生的磁力線轟擊靶材是垂直的，靶材的消耗一般是靶材垂直對(duì)應(yīng)磁場(chǎng)的那部分，而靶材其他部分則不能得到有效利用，造成靶材耗用量大，浪費(fèi)嚴(yán)重。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是：克服現(xiàn)有技術(shù)中之不足，提供一種能使靶材得到充分利用、降低成本的真空鍍膜用可移動(dòng)式磁力裝置。

本實(shí)用新型解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是：一種真空鍍膜用可移動(dòng)式磁力裝置，包括垂直設(shè)置的冷卻基座、貼合安裝在冷卻基座側(cè)表面的永磁鐵，所述冷卻基座上設(shè)有滑軌，永磁鐵與冷卻基座相貼的側(cè)表面具有與滑軌相配的滑槽。

進(jìn)一步地，所述的永磁鐵數(shù)量為兩塊，相距滑動(dòng)設(shè)置在冷卻基座側(cè)表面。

本實(shí)用新型的有益效果是：本實(shí)用新型通過(guò)移動(dòng)永磁鐵位置，可均勻地耗用靶材的各個(gè)部分，充分發(fā)揮靶材的最大使用效率，降低成本，確保靶材消耗的均勻性。

附圖說(shuō)明

下面結(jié)合附圖和實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)一步說(shuō)明。

圖1是本實(shí)用新型的截面結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中1.冷卻基座2.永磁鐵3.滑軌4.滑槽5.靶材6.移位裝置

具體實(shí)施方式

現(xiàn)在結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說(shuō)明。這些附圖均為簡(jiǎn)化的示意圖僅以示意方式說(shuō)明本實(shí)用新型的基本結(jié)構(gòu)，因此其僅顯示與本實(shí)用新型有關(guān)的構(gòu)成。

如圖1所示的一種真空鍍膜用可移動(dòng)式磁力裝置，包括垂直設(shè)置冷卻基座1,冷卻基座1側(cè)表面貼合安裝有產(chǎn)生磁場(chǎng)的永磁鐵2，永磁鐵2數(shù)量為兩塊，相距滑動(dòng)設(shè)置在冷卻基座1側(cè)表面，與永磁鐵2正面相對(duì)并相距設(shè)置有經(jīng)永磁鐵2轟擊后產(chǎn)生微粒子的靶材5，對(duì)應(yīng)地，靶材5數(shù)量也為兩個(gè)。

為實(shí)現(xiàn)永磁鐵2在冷卻基座1側(cè)表面的滑動(dòng)，所述冷卻基座1上設(shè)有滑軌3，永磁鐵2與冷卻基座1相貼的側(cè)表面具有與滑軌3相配的滑槽4，通過(guò)移位裝置6作用，實(shí)現(xiàn)永磁鐵2在冷卻基座1側(cè)表面上沿滑軌3滑動(dòng)。

冷卻基座1采用銅材制作，具有良好的傳導(dǎo)性，冷卻基座1內(nèi)部灌裝有循環(huán)的冷卻水，通過(guò)冷卻水的不斷循環(huán)來(lái)冷卻永磁鐵2，從而保證了永磁鐵2磁性的穩(wěn)定性。

本實(shí)用新型通過(guò)移動(dòng)永磁鐵2位置，可均勻地耗用靶材5的各個(gè)部分，充分發(fā)揮靶材5的最大使用效率，降低成本，確保靶材5消耗的均勻性。

上述實(shí)施方式只為說(shuō)明本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人士能夠了解本實(shí)用新型的內(nèi)容并加以實(shí)施，并不能以此限制本實(shí)用新型的保護(hù)范圍，凡根據(jù)本實(shí)用新型精神實(shí)質(zhì)所作的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。