[實用新型]進氣裝置

有效

• 申請號: 201320504645.X
• 申請日: 2013-08-16
• 公開（公告）號: CN203653689U
• 公開（公告）日: 2014-06-18
• 發明（設計）人: 譚華強;喬徽;林翔;蘇育家
• 申請（專利權）人: 光壘光電科技（上海）有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 鄭瑋

1.一種用于MOCVD工藝的進氣裝置，其特征在于，所述進氣裝置包括：層疊設置的主體部分和熱壁層，所述主體部分包括第一氣體腔室，所述主體部分和熱壁層之間的區域構成第二氣體腔室，所述第二氣體腔室位于所述第一氣體腔室下方；所述第一氣體腔室具有第一氣體管路、所述第二氣體腔室具有第二氣體管路，所述第一氣體管路貫穿所述第二氣體腔室和所述熱壁層，所述第二氣體管路貫穿所述熱壁層；所述第一氣體管路和第二氣體管路的出氣口之間引入有隔離氣體。?

2.如權利要求1所述的進氣裝置，其特征在于，所述熱壁層背離所述主體部分一側的表面呈鋸齒狀。?

3.如權利要求2所述的進氣裝置，其特征在于，所述第二氣體管路設置于相鄰的鋸齒之間，所述相鄰鋸齒的相鄰側壁構成喇叭狀的出氣口，所述出氣口與第二氣體管路相連通，所述出氣口作為第二氣體管路的出氣口，來自第二氣體管路的氣體沿所述出氣口逐漸擴散。?

4.如權利要求1所述的進氣裝置，其特征在于，所述第一氣體管路和第二氣體管路的出氣口位于不同的平面。?

5.如權利要求1所述的進氣裝置，其特征在于，所述進氣裝置還包括：隔離氣體腔室，設置在所述第一氣體腔室與第二氣體腔室之間；?

所述隔離氣體腔室具有隔離氣體管路，所述隔離氣體管路貫穿所述第二氣體腔室和熱壁層，所述隔離氣體管路用于提供隔離氣體。?

6.如權利要求5所述的進氣裝置，其特征在于，所述第二氣體管路嵌套于?所述隔離氣體管路內，所述隔離氣體管路嵌套于所述第一氣體管路內。?

7.如權利要求6所述的進氣裝置，其特征在于，所述第一氣體腔室中通入有第一反應氣體，所述第二氣體腔室中通入有第二反應氣體，所述第一反應氣體為MO源氣，所述第二反應氣體為氨氣，所述隔離氣體包圍所述MO源氣。?

8.如權利要求5所述的進氣裝置，其特征在于，所述進氣裝置還包括冷卻腔室，所述冷卻腔室設置于所述隔離氣體腔室和第二氣體腔室之間。?

9.如權利要求1所述的進氣裝置，其特征在于，所述隔離氣體為氫氣、氮氣或者氦氣中的一種或其中的組合。?

10.如權利要求7所述的進氣裝置，其特征在于，所述隔離氣體包圍所述第一反應氣體或第二反應氣體。?