[實用新型]磁控濺射鋁鏡生產(chǎn)線破真空充氣裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320482005.3 | 申請日: | 2013-08-08 |
| 公開(公告)號: | CN203440440U | 公開(公告)日: | 2014-02-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郭玉芬;丁秀芳;莊慧顯;趙彬;曹本偉;董磊;丁波;尹懷秀 | 申請(專利權(quán))人: | 青島環(huán)球集團股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/18 |
| 代理公司: | 濟南舜源專利事務(wù)所有限公司 37205 | 代理人: | 王連君 |
| 地址: | 266400 山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 磁控濺射 生產(chǎn)線 真空 充氣 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種鋁鏡生產(chǎn)線破真空充氣裝置,尤其涉及一種磁控濺射鋁鏡生產(chǎn)線破真空充氣裝置。
背景技術(shù)
磁控濺射鋁鏡生產(chǎn)線生產(chǎn)過程中,其前、后真空室在每個生產(chǎn)節(jié)拍均需抽真空1次、破真空恢復(fù)大氣壓1次,玻璃板才能進、出真空鍍膜室,完成連續(xù)生產(chǎn)。為提高產(chǎn)量,縮短生產(chǎn)節(jié)拍的時間,充氣閥的口徑一般做得較大。目前,氣流采用直接進入真空室的方式經(jīng)充氣閥充入真空室,遇氣流速度高、沖擊力大的情況出現(xiàn),極易造成玻璃板破碎的事故出現(xiàn),此時整條生產(chǎn)線就要停機,打開真空室,將碎玻璃徹底清理干凈后才能恢復(fù)生產(chǎn)。上述事故的發(fā)生一方面造成生產(chǎn)過程的中斷,影響產(chǎn)量和產(chǎn)品的質(zhì)量,并造成原材料的浪費和生產(chǎn)成本的上升。
實用新型內(nèi)容
本實用新型的目的是,提供一種磁控濺射鋁鏡生產(chǎn)線破真空充氣裝置,其能夠避免氣流對真空室內(nèi)玻璃板的激烈沖擊,降低或消除玻璃板破碎事故的發(fā)生,以實現(xiàn)連續(xù)化生產(chǎn)。
本實用新型要解決的技術(shù)問題是,有效降低氣流進入真空室的流速,減少氣流進入真空室時對真空室內(nèi)玻璃板的沖擊。
本實用新型為解決上述技術(shù)問題所采用的技術(shù)解決方案是:
一種新型的磁控濺射鋁鏡生產(chǎn)線破真空充氣裝置,包括充氣閥、內(nèi)分流槽、內(nèi)分流槽端板、外分流槽、外分流槽端板,其中,內(nèi)分流槽和外分流槽分別焊接在充氣口上;內(nèi)分流槽端板和外分流槽端板分別焊在內(nèi)分流槽和外分流槽的兩端;上述充氣閥與真空室連接的過流口面積比充氣閥進氣口面積大,內(nèi)分流槽的兩側(cè)和底面除正對著充氣口方向的位置之外均鉆有若干小孔,其小孔總面積大于充氣閥的過流口面積;外分流槽的兩側(cè)及底面鉆有若干小孔,其小孔總面積大于內(nèi)分流槽小孔的總面積。
上述技術(shù)方案中,由于充氣閥與真空室連接的過流口面積比充氣閥進氣口面積大,氣流進入后將減速;由于內(nèi)分流槽的兩側(cè)和底面上的小孔總面積大于充氣閥的過流口面積,進入的氣流將進一步減速;相應(yīng)地,外分流槽的兩側(cè)及底面的小孔總面積大于內(nèi)分流槽小孔的總面積,這使得經(jīng)過內(nèi)分流板的氣體量能夠滿足生產(chǎn)工藝的要求,不會出現(xiàn)氣流不足的問題。
也就是說,上述技術(shù)方案的采用能夠有效降低進入真空室氣流的流速,從而能夠避免氣流對真空室內(nèi)玻璃板的激烈沖擊,降低或消除玻璃板破碎事故的發(fā)生。
作為優(yōu)選,上述內(nèi)分流槽與外分流槽上各自鉆有的小孔,其位置相互錯開。
該優(yōu)選技術(shù)方案所直接產(chǎn)生的有益效果是,從充氣閥進入的氣流在依次經(jīng)過內(nèi)分流槽與外分流槽時,氣流的方向?qū)l(fā)生改變。即,氣流在進入真空室的途中將發(fā)生方向上的轉(zhuǎn)變,有始終為直線進入的方式轉(zhuǎn)變?yōu)樵谥型境霈F(xiàn)繞行的進入方式。這樣,氣流的流速將進一步減速。
作為優(yōu)選,上述內(nèi)分流槽端板和外分流槽端板上分別鉆有若干小孔。
在內(nèi)分流槽端板和所述外分流槽端板上分別鉆有若干小孔的目的是,在滿足內(nèi)分流槽的兩側(cè)和底面上的小孔總面積大于充氣閥的過流口面積,以及滿足外分流槽的兩側(cè)及底面的小孔總面積大于內(nèi)分流槽小孔的總面積這兩個前提下,能夠盡可能地使得鉆孔位置分散。這樣,一方面能夠增加氣流進入之后繞行的距離,從而減緩氣流流速;另一方面,能夠降低鉆孔加工的難度,而且能夠避免單位面積的板上由于鉆孔過密所致其強度降低的問題出現(xiàn)。即,既不需要增加內(nèi)分流槽板兩側(cè)及其端板的厚度,也不需要增加外分流槽板兩側(cè)及其端板的厚度。也就是說,鉆孔加工不會增加材料的成本;
更重要的是,以上技術(shù)方案帶來的另一個技術(shù)效果是,將鉆孔分布在各個區(qū)域,使得氣體能從各個方向的鉆孔同時進入真空室,真空室內(nèi)各個方向和位置的升壓過程同步性將更好,這樣真空室內(nèi)各個區(qū)域、各個方向之間的瞬時壓力差就更小甚至消除各區(qū)域或個方向上之間的壓力差,對真空室內(nèi)玻璃板的沖擊就更平和、沖擊力更小。
綜上所述,本實用新型具有以下有益效果:
裝置的結(jié)構(gòu)簡單,加工與安裝方便;
能夠避免氣流對真空室內(nèi)玻璃板的激烈沖擊,減少甚至是消除玻璃板因氣流沖擊和氣流進入真空室所產(chǎn)生的瞬時壓力差所致破碎事故發(fā)生的概率,相應(yīng)地,能夠減少生產(chǎn)線的停機時間,提高產(chǎn)、質(zhì)量和生產(chǎn)效率,降低生產(chǎn)成本。
附圖說明
圖1為本實用新型的磁控濺射鋁鏡生產(chǎn)線破真空充氣裝置結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本實用新型的磁控濺射鋁鏡生產(chǎn)線破真空充氣裝置沿A-A方向的剖視結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖1、2對本實用新型作詳細的說明。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





