[實用新型]加藥反應裝置及廢水凈化裝置

有效

• 申請號: 201320479234.X
• 申請日: 2013-08-07
• 公開（公告）號: CN203474517U
• 公開（公告）日: 2014-03-12
• 發明（設計）人: 袁峰;楊富強
• 申請（專利權）人: 袁峰
• 主分類號: C02F1/52
• 分類號: C02F1/52;C02F9/04
• 代理公司: 石家莊科誠專利事務所 13113
• 代理人: 張紅衛

1.一種加藥反應裝置，包括在上部設有出水孔的反應倉，其特征在于：還包括將混合有藥液的廢水輸送至反應倉下部的廢水供應裝置以及位于廢水供應裝置下方的供氣裝置，該廢水供應裝置包括引入至反應倉內的主管道以及與主管道連通的多個分支管，在每個分支管上均設置有多個二級支管，在二級支管上設有噴水孔，所述的供氣裝置包括供氣主管以及與該供氣主管相連的多個供氣支管，每個供氣支管上均設有噴氣孔。

2.根據權利要求1所述的加藥反應裝置，其特征在于：所述的噴水孔被設置為向斜下方噴水，所述噴氣孔被設置為向斜下方噴氣。

3.根據權利要求2所述的加藥反應裝置，其特征在于：所述噴水孔或噴氣孔均被設置為左右對稱分布，每個噴水孔或噴氣孔與豎直平面的夾角為45°。

4.根據權利要求1所述的加藥反應裝置，其特征在于：所述噴水孔的孔徑為5-10mm，所述噴氣孔的孔徑為3-5mm。

5.一種廢水凈化裝置，包括沉淀裝置，其特征在于：還包括如權利要求1至4中任一項所述的加藥反應裝置，廢水的流向為由加藥反應裝置流向沉淀裝置。

6.根據權利要求5所述的廢水凈化裝置，其特征在于：所述沉淀裝置為斜管沉淀裝置。

7.根據權利要求6所述的廢水凈化裝置，其特征在于：所述斜管沉淀裝置包括位于底部的倒錐形的污泥區、依次位于污泥區上方的緩沖區、沉淀區和清水區，還包括連通加藥反應裝置與緩沖區的導流區。