[實用新型]一種用于化學機械拋光的拋光墊

有效

• 申請號: 201320474504.8
• 申請日: 2013-08-05
• 公開（公告）號: CN203390717U
• 公開（公告）日: 2014-01-15
• 發明（設計）人: 唐強
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: B24B37/26
• 分類號: B24B37/26
• 代理公司: 上海光華專利事務所 31219
• 代理人: 李儀萍

1.一種用于化學機械拋光的拋光墊，其特征在于，所述用于化學機械拋光的拋光墊至少包括：

拋光墊本體，具有一旋轉中心；

用于分布拋光液的凹槽，設于所述拋光墊本體上，所述凹槽包括第一凹槽和第二凹槽，其中，所述第一凹槽是以拋光墊本體的旋轉中心為圓心的至少兩個同心環。

2.根據權利要求1所述的用于化學機械拋光的拋光墊，其特征在于：所述第二凹槽是由多條沿拋光墊本體的徑向分布且以同心環為起點、以拋光墊本體的邊緣為終點的曲線組成。

3.根據權利要求2所述的用于化學機械拋光的拋光墊，其特征在于：所述每條曲線呈S型。

4.根據權利要求1～3任一項所述的用于化學機械拋光的拋光墊，其特征在于：從拋光墊本體的旋轉中心向外數，所述同心環為N個，N≥2；起于第N個同心環、止于拋光墊本體邊緣的曲線定義為第N組曲線；由第一個同心環、拋光墊本體邊緣及第一組曲線中相鄰兩條曲線構成的每一個區域內，包含一條第二組的曲線、兩條第三組的曲線、四條第四組的曲線、依次類推，直至2N-2條第N組的曲線，其中，每一條第N組的曲線設置于前N-1組曲線中的每相鄰兩條曲線之間。

5.根據權利要求1所述的用于化學機械拋光的拋光墊，其特征在于：所述每一個同心環的橫截面是倒梯形或長方形。

6.根據權利要求1所述的用于化學機械拋光的拋光墊，其特征在于：所述同心環之間的間距范圍為5～20mm。

7.根據權利要求2所述的用于化學機械拋光的拋光墊，其特征在于：所述每一條曲線的橫截面是倒梯形或長方形。