[實用新型]一種光掩模板貼膜裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320468817.2
• 申請日: 2013-08-01
• 公開（公告）號: CN203422554U
• 公開（公告）日: 2014-02-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 凌震軍
• 申請（專利權(quán)）人: 上海凸版光掩模有限公司
• 主分類號: G03F1/62
• 分類號: G03F1/62
• 代理公司: 上海光華專利事務(wù)所 31219
• 代理人: 李儀萍

1.一種光掩模板貼膜裝置，用于在光掩模板表面貼裝保護(hù)膜，其特征在于，所述光掩模板貼膜裝置至少包括：

底座；

可調(diào)支架，設(shè)于所述底座上，且所述可調(diào)支架的中心具有一容置空間；

用來放置待貼保護(hù)膜的膜片槽，設(shè)于所述容置空間內(nèi)；

用于支撐光掩模板的彈性支點，設(shè)于所述可調(diào)支架上；

活動壓板，壓于所述光掩模板上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模板貼膜裝置，其特征在于：所述底座包括支撐腿和設(shè)于所述支撐腿上的工作臺。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模板貼膜裝置，其特征在于：所述彈性支點為壓縮彈簧。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模板貼膜裝置，其特征在于：所述保護(hù)膜包括膜面和膜框，所述膜面粘結(jié)在膜框底部；所述膜框頂部涂有膠且與待貼膜的光掩模板對準(zhǔn)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光掩模板貼膜裝置，其特征在于：所述活動壓板包括：至少兩個壓條、第一壓板和第二壓板；所述壓條固定于所述第一壓板的下表面邊緣；所述第二壓條固定于第一壓條的下表面。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光掩模板貼膜裝置，其特征在于：每一個壓條的下表面為斜面，所述斜面壓于光掩模板上表面邊緣的棱邊上；所述斜面的傾斜角為α，0°＜α＜90°。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光掩模板貼膜裝置，其特征在于：所述斜面的傾斜角α為15°。

8.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的光掩模板貼膜裝置，其特征在于：所述壓條的材料為聚四氟乙烯。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光掩模板貼膜裝置，其特征在于：所述第二壓板的一端設(shè)有限位部件，另一端與所述底座固定連接；所述第二壓板與底座連接的一端上還設(shè)有旋轉(zhuǎn)軸。

10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光掩模板貼膜裝置，其特征在于：所述第一壓板和第二壓板均為合金材質(zhì)。