[實用新型]基于介電泳效應的雙平面研磨/拋光圓柱形零件設備有效
| 申請號： | 201320467949.3 | 申請日： | 2013-08-01 |
| 公開（公告）號： | CN203401387U | 公開（公告）日： | 2014-01-22 |
| 發明（設計）人： | 鄧乾發;鐘美鵬;呂冰海;袁巨龍;郭偉剛;王潔;姚蔚峰;趙天晨;周芬芬 | 申請（專利權）人： | 浙江工業大學 |
| 主分類號： | B24B37/10 | 分類號： | B24B37/10;B24B37/32 |
| 代理公司： | 杭州斯可睿專利事務所有限公司 33241 | 代理人： | 王利強 |
| 地址： | 310014 浙江省*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 電泳 效應 平面 研磨 拋光 圓柱形 零件 設備 | ||
1.一種基于介電泳效應的雙平面研磨/拋光圓柱形零件設備，包括上拋光盤、保持架和下拋光盤,所述上拋光盤位于下拋光盤上方，所述保持架位于上拋光盤與下拋光盤之間，其特征在于：所述的上拋光盤上安裝第一電極板，所述第一電極板與交流電源的第一引出端連接，所述下拋光盤上安裝第二電極板，所述第二電極板與所述交流電源的第二引出端連接；所述的交流電源的電流輸入端與用于控制所述的交流電源的電壓與頻率的調頻調壓控制器連接。?
2.如權利要求1所述的基于介電泳效應的雙平面研磨/拋光圓柱形零件設備，其特征在于：所述的上拋光盤內安裝有第一絕緣板，所述第一電極板安裝在所述第一絕緣板上；所述的下拋光盤內安裝有第二絕緣板，所述第二電極板安裝在所述第二絕緣板上。?
3.如權利要求1所述的基于介電泳效應的雙平面研磨/拋光圓柱形零件設備，其特征在于：所述的上拋光盤為絕緣材料拋光盤，所述的下拋光盤為絕緣材料拋光盤。?
4.如權利要求1～3之一所述的基于介電泳效應的雙平面研磨/拋光圓柱形零件設備，其特征在于：所述保持架的轉軸和下研磨盤的轉軸呈同軸設置，所述上拋光盤的轉軸與所述下拋光盤的轉軸存在確定偏距，加載裝置位于所述上拋光盤上。?
5.如權利要求4所述的基于介電泳效應的雙平面研磨/拋光圓柱形零件設備，其特征在于：所述下拋光盤的轉軸呈中空狀，下拋光盤的中部開有通孔，所述保持架的轉軸穿過所述下拋光盤的轉軸內腔和通孔。?
6.如權利要求1～3之一所述的基于介電泳效應的雙平面研磨/拋光圓柱形零件設備，其特征在于：所述保持架呈圓盤狀，所述保持架的盤面上開有供待加工零件放置的加工槽，呈放射狀、同心圓狀或柵格狀分布。?
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