[實用新型]一種具有磁流體密封結構的真空泵

有效

• 申請號: 201320467248.X
• 申請日: 2013-07-31
• 公開（公告）號: CN203463257U
• 公開（公告）日: 2014-03-05
• 發明（設計）人: 倪詩茂
• 申請（專利權）人: 思科渦旋科技（杭州）有限公司
• 主分類號: F04B39/00
• 分類號: F04B39/00
• 代理公司: 上海申新律師事務所 31272
• 代理人: 竺路玲

1.一種具有磁流體密封結構的真空泵，所述真空泵包括：

一固定渦卷；

一相對所述固定渦卷做繞動運動的繞動渦卷；

一位于所述固定渦卷上的渦卷基座；

一與所述渦卷基座面對面相連接的推力板，并且所述推力板的中央開設避空孔；

一曲軸，所述曲軸的偏心段貫穿所述推力板的避空孔并與所述繞動渦卷的背面相連接；?

一曲軸基座，所述曲軸位于所述曲軸基座上，并且所述曲軸基座與所述推力板和所述渦卷基座固定連接；以及

一活塞后支座，所述活塞后支座通過軸承連接于所述曲軸靠近所述推力板的一側的軸偏心段表面，所述活塞后支座的中央環形凸臺可繞動地貫穿所述推力板的避空孔，并通過一活塞前支座與所述繞動渦卷的背面連接；所述活塞后支座的其余部分與所述推力板的徑向端面相互靠近；其特征在于：

所述曲軸遠離所述繞動渦卷的一側的軸未偏心段表面上開設若干等間距的環形凹槽；所述真空泵還包括：

一磁流體密封裝置，所述磁流體密封裝置包括永磁體和導磁體；所述永磁體置于所述曲軸的內部，并且正對若干所述凹槽；所述導磁體環形置于所述曲軸的凹槽的外側，并且正對所述永磁體；同時，所述導磁體與所述曲軸的軸表面之間的間隙內注有磁流液。

2.一種具有磁流體密封結構的真空泵，所述真空泵包括：

一固定渦卷；

一相對所述固定渦卷做繞動運動的繞動渦卷；

一位于所述固定渦卷上的渦卷基座；

一與所述渦卷基座面對面相連接的推力板，并且所述推力板的中央開設避空孔；

一曲軸，所述曲軸的偏心段貫穿所述推力板的避空孔并與所述繞動渦卷的背面相連接；

一曲軸基座，所述曲軸位于所述曲軸基座上，并且所述曲軸基座與所述推力板和所述渦卷基座固定連接；

一活塞后支座，所述活塞后支座通過軸承連接于所述曲軸靠近所述推力板的一側的軸偏心段表面，所述活塞后支座的中央環形凸臺可繞動地貫穿所述推力板的避空孔，并通過一活塞前支座與所述繞動渦卷的背面連接；所述活塞后支座的其余部分與所述推力板的徑向端面相互靠近；以及

一與所述曲軸遠離所述繞動渦卷的一側的軸未偏心段表面連接的基座端蓋，并且所述基座端蓋與所述曲軸基座固定連接；其特征在于：所述真空泵還包括：

一連接于所述曲軸靠近所述基座端蓋的一側的軸未偏心段表面的動密封體；

一嵌設于所述基座端蓋的靜密封體，所述靜密封體正對所述動密封體的徑向端面開設若干等間距的環形凹槽；

一磁流體密封裝置，所述磁流體密封裝置包括永磁體和導磁體；所述永磁體置于所述動密封體的內部，并且正對若干所述凹槽；所述導磁體置于所述靜密封體的內部，并且正對所述永磁體；同時，所述導磁體與所述靜密封體的徑向端面之間的間隙內注有磁流液。

3.根據權利要求1或2中任意一項所述具有磁流體密封結構的真空泵，其特征在于，所述導磁體靠近所述磁流液的端面涂覆厭磁流液涂層，所述厭磁流液涂層為聚四氟乙烯。

4.根據權利要求1或2中任意一項所述具有磁流體密封結構的真空泵，其特征在于，相鄰兩所述凹槽之間的凸環的截面形狀為矩形，相鄰兩所述凹槽之間的凸環的頭部為圓角；或者相鄰兩所述凹槽之間的凸環的截面形狀為三角形。

5.根據權利要求1或2中任意一項所述具有磁流體密封結構的真空泵，其特征在于，每一所述凹槽的深度和寬度均相同。

6.根據權利要求1所述具有磁流體密封結構的真空泵，其特征在于，所述曲軸的軸表面上分別向外凸起形成兩環形擋圈，并且所述擋圈靠近兩側的所述凹槽。

7.根據權利要求6所述具有磁流體密封結構的真空泵，其特征在于，所述擋圈的高度低于所述導磁體與所述曲軸的軸表面之間的間隙。

8.根據權利要求2所述具有磁流體密封結構的真空泵，其特征在于，所述靜密封體的徑向端面上向外凸起形成一環形擋圈，并且若干所述凹槽位于所述擋圈之內。

9.根據權利要求8所述具有磁流體密封結構的真空泵，其特征在于，所述擋圈的高度低于所述導磁體與所述靜密封體的徑向表面之間的間隙。

10.根據權利要求1或2中任意一項所述具有磁流體密封結構的真空泵，其特征在于，所述固定渦卷具有一第一端板結構，所述第一端板結構上固定并向外延伸設置有一第一渦卷結構；所述繞動渦卷具有一第二端板結構，所述第二端板結構上固定并向外延伸設置有一第二渦卷結構；同時，所述固定渦卷的所述第一端板結構與所述繞動渦卷的所述第二端板結構面對面相互靠近。