[實用新型]一種用于制造OGS結構的涂布刀頭

有效

• 申請號: 201320465144.5
• 申請日: 2013-07-31
• 公開（公告）號: CN203411473U
• 公開（公告）日: 2014-01-29
• 發明（設計）人: 沈勵;許沭華;胡里程
• 申請（專利權）人: 蕪湖長信科技股份有限公司
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36
• 代理公司: 蕪湖安匯知識產權代理有限公司 34107
• 代理人: 朱圣榮

技術領域

本實用新型涉及電容觸控屏的生產設備。

背景技術

在社會進步快速發展下，人們對觸摸屏追求越來越高。為了滿足智能終端超薄化和提升顯示效果需求，OGS結構已經得到廣泛的運用，OGS即在保護玻璃（蓋板）上直接形成ITO導電膜及傳感器的技術。一塊玻璃同時起到保護玻璃和觸摸傳感器的雙重作用，能達到節省了一層玻璃成本和減少了一次貼合成本，減輕了重量及厚度;?增加了透光度，將是高端品牌終端的必然選擇。

目前生產OGS結構時，需要利用涂布刀頭對玻璃蓋板表面涂布光刻膠，如圖5所示，正常涂布刀頭，刀頭內墊片沒有加寬16-22mm。涂布出來的光阻寬度等于基板玻璃寬度。涂布后黑光刻膠完全覆蓋基板玻璃，對位靶標會被黑色覆蓋，曝光機對位燈源無法透過黑色物質，分辨十字對位靶標。

實用新型內容

本實用新型所要解決的技術問題是實現一種涂布黑色光刻膠時不會遮擋對位靶標的涂布刀頭。

為了實現上述目的，本實用新型采用的技術方案為：

一種用于制造OGS結構的涂布刀頭，所述的涂布刀頭由兩個刀片合并構成，所述的刀片之間存在涂布間隙，所述的間隙兩端各設有一個墊片，所述的墊片之間的間距小于蓋板玻璃寬度。

所述的墊片之間的間距小于蓋板玻璃寬度20mm，所述的墊片厚度為40um。

本實用新型的優點在于改造后的涂布機刀頭能夠避讓靶標，使對位靶標不被BM光刻膠遮擋。

附圖說明

下面對本實用新型說明書中每幅附圖表達的內容及圖中的標記作簡要說明：

圖1為電容屏OGS結構剖視圖；

圖2為涂布光刻膠示意圖；

圖3為涂布光刻膠后蓋板玻璃結構示意圖；

圖4為涂布刀頭結構示意圖；

圖5為目前使用的涂布刀頭進行涂布光刻膠工藝示意圖

上述圖中的標記均為：1、蓋板玻璃；2、高溫ITO跳躍導體層；3、BM邊框；4、絕緣架橋層；5、低溫ITO單元圖案層；6、導電圖層；7、樹脂保護層；8、對位靶標；9、涂布刀頭；10、光刻膠；901、刀片；902、墊片；903、涂布間隙。

具體實施方式

光刻膠10涂布過程，其涂布刀頭9由兩個刀片901合并構成，刀片901為鎢鋼材質板，刀片之間存在涂布間隙903，涂布間隙903（涂布時光刻膠噴涂口）兩端各設有一個墊片902，光刻膠10就是由中間沒有墊片902的涂布間隙903位置噴涂出來，墊片902之間的間距小于蓋板玻璃1的寬度，這樣涂布時可以避讓BM光刻膠10遮擋對位靶標8。

墊片之間的間距小于蓋板玻璃寬度20mm，墊片902的厚度為40um。這也是本專利關鍵所在，必通過避讓BM黑色光刻膠10，避免涂布時遮擋高溫ITO跳躍導體層2制程留下來的對位靶標8，而導致無法對位曝光。

行業常規設計對位靶標位置8的位置一般離蓋板玻璃1邊緣的距離為5-7mm。圖形區域離基板玻璃邊緣＞12mm。制作BM邊框3制程涂布時，對位靶標8可以袒露在外面，不被黑色光刻膠10所覆蓋住。

改進涂布刀頭的目的是為了適應電容屏OGS結構制作工藝。其制作工藝按照以下制造步驟進行：

步驟1、在經過強化工藝處理后的蓋板玻璃1一面鍍制ITO層，蓋板玻璃1厚度為0.7-2.0mm，強化后應力層為10-12um?，應力值為550-650mpa。

步驟2、將步驟1中涂布的ITO層制作成高溫ITO跳躍導體層2，同時在邊緣制作出兩個對位靶標8，此步驟是為了避免BM邊框3（感光劑黑膜層）在高溫鍍膜過程中受熱過高受損，以及避免多次酸堿藥液制程（清洗液，顯影液，蝕刻液脫膜液）BM邊框3附著力脫落，就此先進行高溫ITO跳躍導體層2制作。

ITO層渡制采用真空磁控濺射方法高溫鍍制，制作高溫ITO跳躍導體層2時采用觸摸屏黃光光刻技術，對ITO層依次進行：清洗，涂布，軟烤，曝光，顯影，硬烤,蝕刻、剝膜工藝處理。制作成高溫ITO跳躍導體層2（ITO-jumper圖層）。制作高溫ITO跳躍導體層2時，必須要在邊緣留下2個對位靶標，一個為制作BM邊框3時對位使用，另一個是在OC絕緣架橋層4制程時使用。

步驟3、涂布光刻膠10，涂布時采用本實用新型的涂布刀頭9，使得設有對位靶標8的邊緣部分不涂布光刻膠10，通過涂布機刀頭9避讓對位靶標8可以確保對位曝光工序。之后將涂布之后將光刻膠制成BM邊框3，BM邊框3制作在高溫ITO跳躍導體層2上，主要代替貼合蓋板玻璃1及貼合蓋板玻璃1上的黑框油墨。