[實用新型]用于制備二氯二氫硅的設備有效
| 申請號： | 201320456521.9 | 申請日： | 2013-07-29 |
| 公開（公告）號： | CN203820468U | 公開（公告）日： | 2014-09-10 |
| 發明（設計）人： | 司文學;嚴大洲;肖榮暉;湯傳斌;楊永亮 | 申請（專利權）人： | 中國恩菲工程技術有限公司 |
| 主分類號： | C01B33/107 | 分類號： | C01B33/107 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 李志東 |
| 地址： | 100038*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 用于 制備 二氯二氫硅 設備 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于制備二氯二氫硅的設備，其特征在于，包括：?
歧化反應器，所述歧化反應器設置有陰離子交換樹脂；以及?
用于從所述反應產物分離二氯二氫硅的分離裝置，所述分離裝置與所述歧化反應器相連，?
所述歧化反應器包括：?
反應器本體，所述反應器本體內限定出歧化反應空間；?
催化劑床層，所述催化劑床層由陰離子交換樹脂構成，并且設置在所述歧化反應空間內；?
向所述歧化反應空間內供給三氯氫硅的三氯氫硅進料口，所述三氯氫硅進料口設置在所述反應器本體上；以及?
用于將所述歧化反應空間內的反應產物排出所述歧化反應空間的反應產物出料口，所述反應產物出料口設置在所述反應器本體上，?
所述催化劑床層的高徑比L/D在3‐200的范圍內。?
2.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述催化劑床層的高度為至少2m。?
3.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，沿所述反應器本體軸向方向，所述三氯氫硅進料口設置在所述催化劑床層的下方，所述反應產物出料口設置在所述催化劑床層的上方。?
4.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，所述歧化反應器進一步包括：?
用于對所述催化劑床層進行保溫的保溫組件，所述保溫組件設置在所述反應器本體上，?
其中，所述保溫組件包括氯硅烷入口和氯硅烷出口。?
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