[實用新型]一種多功能化學靜態清洗小型試驗裝置

有效

• 申請號: 201320428449.9
• 申請日: 2013-07-15
• 公開（公告）號: CN203360580U
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發明（設計）人: 于金山;郭軍科;盧立秋;蘇展;趙鵬;杜濤;郝春艷
• 申請（專利權）人: 國家電網公司;國網天津市電力公司
• 主分類號: C23G3/00
• 分類號: C23G3/00
• 代理公司: 天津盛理知識產權代理有限公司 12209
• 代理人: 王來佳

技術領域

本實用新型屬于熱力設備化學清洗技術領域，特別是一種多功能化學靜態清洗小型試驗裝置。

背景技術

熱力設備水、汽系統的清潔是保證熱力設備安全運行和防腐蝕防垢的重要手段，為了保證熱力設備水、汽系統的潔凈及運行中爐水、蒸汽的優良品質，熱力設備在基建投產前和運行過程中都必須進行化學清洗。

熱力設備的化學清洗是一項復雜的系統工程。它要求清洗方案嚴謹，系統設計合理，清洗介質優良，緩蝕效果高，設備安全可靠，廢液處理達標。因此在實施清洗前必須做好充分的洗前準備。任何一個環節出現問題都會造成被動，使清洗工作無法順利進行。

根據垢樣分析結果與實際工期確定溶垢實驗方案。試驗時要使用帶垢樣并確定除垢工藝參數，試驗分靜態浸泡和動態循環兩種。靜態浸泡是根據化學藥劑的溶解、疏松、剝離作用，在清洗液中加入相應的緩蝕劑、表面活性劑、還原劑等，然后將帶垢管樣浸入清洗液中，并控制適當的溫度，記錄溶垢速率。

所以要求每次酸洗前，都要進行化學酸洗實驗室小型實驗，同時對于工期要求比較緊張，垢量不是很大的熱力設備，采取靜態浸泡的方式進行化學清洗。

DL/T794-2011《火力發電廠鍋爐化學清洗導則》要求靜態浸泡輔助采用在靜態浸泡中通入氮氣輔助清洗的方法，在實際現場應用中很多電廠在靜態化學清洗時，采用壓縮空氣進行輔助化學清洗，清洗方法雖然有特定要求，但清洗設備多種多樣，總體上缺少效率高的專用裝置。

實用新型內容

本實用新型的目的在于克服現有技術的不足，提供一種多功能化學靜態清洗小型試驗裝置。

本實用新型解決其技術問題是采取以下技術方案實現的：

一種多功能化學靜態清洗小型試驗裝置，包括水箱及安置在水箱下面的水浴加熱裝置，所述水箱內部由縱向中間隔板分割成左腔體及右腔體，中間隔板的上部安裝有連通左右腔體的混氣閥，中間隔板的下部安裝有連通左右腔體的混液閥，所述左右腔體內的下部均安裝有水平多孔板，多孔板的下部箱體內注有二級除鹽水，在所述左腔體多孔板上安放有外表面拋光的水冷壁管樣，在所述右腔體多孔板上安放有外表面拋光的水冷壁管件，所述左右腔體內的頂部分別向下吊掛左試片及右試片，在所述左腔體的頂部安裝有左排氣閥及壓縮空氣管道，壓縮空氣管道穿入左腔體頂部向下再穿過多孔板后延伸至箱體底部的二級除鹽水中，在所述右腔體的頂部安裝有右排氣閥及壓縮氮氣管道，壓縮氮氣管道穿入右腔體頂部向下再穿過多孔板后延伸至箱體底部的二級除鹽水中，在水箱外部的壓縮氮氣管道上安裝有壓力表。

而且，所述水浴加熱裝置為恒溫熱電偶控制模塊加熱，水浴加熱裝置上部設有加熱水槽，恒溫熱電偶控制模塊加熱水槽中的水后，由加熱水對水箱進行均勻加熱。

而且，所述二級除鹽水的電導率≤0.3μS/cm。

而且，所述壓縮氮氣管道中的氣壓為0.03-0.06兆帕，所述壓縮空氣管道中的氣壓為0.03-0.06兆帕。

本實用新型的優點和積極效果是

1、本實用新型裝置實現了氮氣鼓泡清洗或空氣鼓泡清洗或氮氣或空氣不同配比鼓泡靜態化學清洗，清洗效率高。

2、本實用新型結構簡單，易于操作，具有市場推廣意義。

附圖說明

圖1是本實用新型裝置整體結構示意圖。

具體實施方式

以下結合附圖對本實用新型實施例做進一步詳述，以下實施例只是描述性的，不是限定性的，不能以此限定本實用新型的保護范圍。

一種多功能化學靜態清洗小型試驗裝置，如圖1所示，包括水箱2及安置在水箱下面的水浴加熱裝置14，所述水箱內部由縱向中間隔板12分割成左腔體及右腔體，中間隔板的上部安裝有連通左右腔體的混氣閥5，中間隔板的下部安裝有連通左右腔體的混液閥13，所述左右腔體內的下部均安裝有水平多孔板10，多孔板的下部箱體內注有二級除鹽水，在所述左腔體多孔板上安放有外表面拋光的水冷壁管樣15，在所述右腔體多孔板上安放有外表面拋光的水冷壁管件11，所述左右腔體內的頂部分別向下吊掛左試片3及右試片7，在所述左腔體的頂部安裝有左排氣閥4及壓縮空氣管道1，壓縮空氣管道穿入左腔體頂部向下再穿過多孔板后延伸至箱體底部的二級除鹽水中，在所述右腔體的頂部安裝有右排氣閥6及壓縮氮氣管道9，壓縮氮氣管道穿入右腔體頂部向下再穿過多孔板后延伸至箱體底部的二級除鹽水中，在水箱外部的壓縮氮氣管道上安裝有壓力表8。

在本實用新型的具體實施中，所述水浴加熱裝置為恒溫熱電偶控制模塊加熱，水浴加熱裝置上部設有加熱水槽，恒溫熱電偶控制模塊加熱水槽中的水后，由加熱水對水箱進行均勻加熱。