[實用新型]石墨坩堝及包含其的單晶爐

有效

• 申請號: 201320419405.X
• 申請日: 2013-07-12
• 公開（公告）號: CN203360620U
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發明（設計）人: 白劍銘
• 申請（專利權）人: 英利能源（中國）有限公司
• 主分類號: C30B15/10
• 分類號: C30B15/10;C30B29/06
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 吳貴明;張永明

1.一種石墨坩堝，其特征在于，包括多個瓣體（10），各所述瓣體均具有對接面（14），相鄰兩個所述瓣體（10）之間通過所述對接面（14）對接，相對接的兩個所述對接面（14）之間形成對接縫隙（12），所述對接縫隙（12）處嵌設有防止所述石墨坩堝內的腐蝕性物質從所述對接縫隙（12）處流出的阻擋層（11）。

2.根據權利要求1所述的石墨坩堝，其特征在于，所述瓣體（10）上設置有凹槽（13），所述凹槽（13）從所述對接面（14）向所述瓣體（10）的側壁凹陷，相對接的兩個所述瓣體（10）的所述凹槽（13）相對以安裝所述阻擋層（11）。

3.根據權利要求2所述的石墨坩堝，其特征在于，所述凹槽（13）的深度大于所述對接縫隙（12）的寬度。

4.根據權利要求2所述的石墨坩堝，其特征在于，所述凹槽（13）到所述瓣體（10）的內表面和外表面的距離相等。

5.根據權利要求2至4中任一項所述的石墨坩堝，其特征在于，所述凹槽（13）從所述瓣體（10）的上邊緣延伸至所述瓣體（10）的底部，所述阻擋層（11）將所述對接縫隙（12）全部阻擋或部分阻擋。

6.根據權利要求1所述的石墨坩堝，其特征在于，所述阻擋層（11）為鉬片層。

7.根據權利要求6所述的石墨坩堝，其特征在于，所述鉬片層垂直于所述對接縫隙（12）。

8.一種單晶爐，包括爐體和石墨坩堝，所述石墨坩堝設置在所述爐體內，其特征在于，所述石墨坩堝為權利要求1至7中任一項所述的石墨坩堝。