[實用新型]焦面調整裝置

有效

• 申請號: 201320417821.6
• 申請日: 2013-07-12
• 公開（公告）號: CN203444239U
• 公開（公告）日: 2014-02-19
• 發明（設計）人: 周靜怡;馬明英
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/207
• 分類號: G03F7/207;G02F1/29
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

技術領域

本實用新型涉及光刻領域，尤其涉及一種焦面調整裝置。?

背景技術

光刻設備是一種應用于集成電路制造的裝備，該裝備的應用范圍包括但不限于：集成電路制造光刻裝置、液晶面板光刻裝置、光掩模刻印裝置、MEMS(微電子機械系統)/MOMS(微光機系統)光刻裝置、先進封裝光刻裝置、印刷電路板光刻裝置及印刷電路板加工裝置等。?

在光刻設備的曝光過程中，需要對硅片進行對焦，由于硅片的厚度偏差、面形起伏以及投影物鏡焦面的離焦、傾斜、場曲等因素，會造成硅片在曝光場內的局部區域垂向位置相對于物鏡焦面存在偏差。如果該偏差大于有效焦深，將嚴重影響光刻設備的曝光，進而影響集成電路的質量和成品率。在當前的光刻工藝中，硅片的表面起伏以及投影物鏡的場曲，硅片在曝光場內的局部區域垂向位置相對于物鏡焦面存在的偏差已經非常接近光刻工藝的有效焦深。因此，必須采用調焦調平傳感器測量出硅片表面的局部形貌相對于投影物鏡焦平面的差異，并通過調焦的方法，使該差異盡可能小。?

傳統的調焦方法是用工件臺驅動硅片做垂向運動，調整硅片的高度和傾斜，使硅片局部區域的最佳擬合面與投影物鏡焦面的最佳擬合面重合。由于工件臺驅動硅片做垂向運動的控制方式只能調整硅片局部區域的離焦量和傾斜量，無法補償曝光場內局部區域的高階起伏，因此該方法無法完全補償投影物鏡視場范圍內各個位置的離焦。?

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種焦面調整裝置,以提高對焦精度。?

為了實現上述目的，本實用新型提出一種焦面調整裝置，包括：工件臺以?及成像裝置；所述成像裝置設置在所述工件臺上方；所述成像裝置包括投影物鏡、可控光學器件以及電控單元；所述可控光學器件設置在所述投影物鏡內；所述可控光學器件與所述電控單元連接。?

進一步的，所述可控光學器件包括三棱反射鏡以及自適應光學器件，所述自適應光學器件設置在所述三棱反射鏡的一側。?

進一步的，，所述自適應光學器件為自適應凹形反射鏡。?

進一步的，所述投影物鏡中的光線經所述三棱反射鏡的其中一表面反射至自適應光學器件，再經由所述自適應光學器件反射至所述三棱反射鏡的另一面，最后經過投影物鏡并照射在所述工件臺上的晶圓表面。?

進一步的，所述可控光學器件為多電極驅動液晶透鏡。?

進一步的，所述可控光學器件位于所述投影物鏡的光瞳與像面之間。?

與現有技術相比，本實用新型的有益效果主要體現在：在投影物鏡與工件臺之間添加可控光學器件，通過電控單元調整可控光學器件的光學特性以改變投影物鏡焦面的高階形貌，使得投影物鏡焦面產生特定的形貌起伏，并使焦面與硅片表面的高階起伏重合，從而提高了光刻機的總體調焦精度，進而提高光刻工藝的成品率。?

附圖說明

圖1為實施例一中焦面調整裝置的結構示意圖；?

圖2a至圖2b為實施例一中焦面調整示意圖；?

圖3為實施例二中焦面調整裝置的結構示意圖。?

具體實施方式

以下結合附圖和具體實施例對本實用新型提出的焦面調整裝置作進一步詳細說明。根據下面說明和權利要求書，本實用新型的優點和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。?

實施例一?

請參考圖1，本實施例中，提出一種焦面調整裝置，包括：工件臺100以及?成像裝置；所述成像裝置設置在所述工件臺100上方；所述成像裝置包括投影物鏡200、可控光學器件300以及電控單元400；所述可控光學器件300設置在所述投影物鏡200內部；所述可控光學器件300與所述電控單元400連接。進一步的，所述可控光學器件300位于所述投影物鏡200光瞳與像面之間。?