[實用新型]基于關聯光學的單次成像及存取裝置

有效

• 申請號: 201320416869.5
• 申請日: 2013-07-12
• 公開（公告）號: CN203365677U
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發明（設計）人: 陳麗清;張凱;郭進先;邊成玲;袁春華;區澤宇;張衛平
• 申請（專利權）人: 華東師范大學
• 主分類號: G01S17/89
• 分類號: G01S17/89
• 代理公司: 上海藍迪專利事務所 31215
• 代理人: 徐筱梅;張翔

1.一種基于關聯光學的單次成像及存取裝置，它包括：

第一光源（1），為寫光；

第二光源（3），為讀光；

第一光調制器（29），其沿所述第一光源（1）的光路設置；

第二光調制器（31），其沿所述第二光源（3）的光路設置；

第一分束器（10），其沿所述第一光源（1）的光路設置，所述第一光源（1）經第一分束器（10）后的反射光路為第一寫光光路，透射光路為第二寫光光路；

第二分束器（12），其沿所述第二光源（3）的光路設置，所述第二光源（3）經第二分束器（12）后的反射光路為第一讀光光路，透射光路標記為第二讀光光路；

第一反射鏡（9），其沿第一光源（1）經第一分束器（10）后的反射光路即第一寫光光路設置；

第二反射鏡（18），其沿所述第二光源（3）經第二分束器（12）后的反射光路即第一讀光光路設置；

第一半波片（23），其沿所述第一光源（1）經第一分束器（10）后的透射光路即第二寫光光路設置；

第二半波片（24），其沿所述第一光源（1）經第一分束器（10）后的反射光路，即第一寫光光路設置；

第三半波片（26），其沿所述第二光源（3）經第二分束器（12）后的透射光路即第二讀光光路設置；

第四半波片（25），其沿所述第二光源（3）經第二分束器（12）后的反射光路即第一讀光光路設置；

第一極化分束器（15），其沿所述第一光源（1）經第一分束器（10）后的透射光路和反射光路即第一寫光和第二寫光光路設置；

第二極化分束器（16），其沿所述第二光源（3）經第二分束器（12）后的透射光路和反射光路即第一讀光和第二讀光光路及與其反向重合的第一光源（1）經第一分束器（10）后的透射光路和反射光路即第一寫光和第二寫光光路設置；

存儲介質單元（32），其設置在所述第一極化分束器（15）和第二極化分束器（16）之間；

第一衰減片（28），其沿所述第一光源（1）經第一分束器（10）后的反射光路即第一寫光光路所產生信號光場的光路設置；

第三反射鏡（22），其沿所述第一光源（1）經第一分束器（10）后的透射光路即第二寫光光路所產生信號光場的光路設置；

第三分束器（14），其沿所述第一光源（1）經第一分束器（10）后的反射光路和透射光路即第一寫光光路和第二寫光光路所產生信號光場的光路設置；

第一面探測器（5），其沿所述第一光源（1）經第一分束器（10）后的反射光路和透射光路即第一寫光光路和第二寫光光路所產生信號光場的光路設置；

第二衰減片（27），其沿所述第二光源（3）經第二分束器（12）后的反射光路即第一讀光光路所產生信號光場的光路設置；

第四反射鏡（21），其沿所述第二光源（3）經第二分束器（12）后的透射光路即第二讀光光路所產生信號光場的光路設置；

第四分束器（13），其沿所述第二光源（3）經第二分束器（12）后的反射光路和透射光路即第一讀光光路和第二讀光光路所產生信號光場的光路設置；

第二面探測器（4），其沿所述第二光源（3）經第二分束器（12）后的反射光路和透射光路，即第一讀光光路和第二讀光光路所產生信號光場的光路設置；

計算機（6），其設置與第一面探測器（5）和第二面探測器（4）連接。

2.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于所述第一光源與第二光源為半導體激光器、固體激光器、氣體激光器或液體激光器。

3.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于所述存儲介質單元為處于基態的原子、分子、離子或量子點。

4.根據權利要求1所述的裝置，其特征在于所述光調制器為聲光調制器或斬波器。