[實用新型]局部蝕刻裝置

有效

• 申請號: 201320416395.4
• 申請日: 2013-07-12
• 公開（公告）號: CN203482505U
• 公開（公告）日: 2014-03-12
• 發明（設計）人: 曾子章;劉文芳;張啟民
• 申請（專利權）人: 欣興電子股份有限公司
• 主分類號: H05K3/06
• 分類號: H05K3/06
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳小雯

1.一種局部蝕刻裝置，適于對物體進行局部蝕刻，其特征在于，該局部蝕刻裝置包括：

局部蝕刻槽，用于容置該物體，并具有蝕刻有效區；以及

噴灑單元，可移動地設置于該蝕刻有效區，并位于該物體的上方，該噴灑單元包括多個噴嘴，以對該物體噴灑蝕刻液，各該噴嘴具有控制閥，各該控制閥獨立控制對應的噴嘴，且各該噴嘴沿傾斜方向設置并與垂直方向夾有第一銳角。

2.如權利要求1所述的局部蝕刻裝置，其特征在于，該第一銳角的角度介于8度至45度之間。

3.如權利要求1所述的局部蝕刻裝置，其特征在于，該些噴嘴彼此間的間距介于0.5英吋至2英吋之間。

4.如權利要求1所述的局部蝕刻裝置，其特征在于，各該控制閥獨立控制對應的噴嘴的開啟、關閉、噴灑該蝕刻液的流量或壓力。

5.如權利要求1所述的局部蝕刻裝置，其特征在于，該噴灑單元的移動方向平行于該物體的上表面以及相對該物體上下移動。

6.如權利要求1所述的局部蝕刻裝置，其特征在于，該局部蝕刻裝置還包括至少一氣幕單元，平行于該噴灑單元設置以提供氣幕，其中各該噴嘴沿該傾斜方向偏向該噴灑單元的一側，而該氣幕單元設置于相對于該側的另一側。

7.如權利要求1所述的局部蝕刻裝置，其特征在于，該氣幕單元的出氣方向與垂直方向夾有第二銳角。

8.如權利要求7所述的局部蝕刻裝置，其特征在于，該第二銳角的角度介于8度至45度之間。

9.如權利要求1所述的局部蝕刻裝置，其特征在于，該局部蝕刻裝置還包括傳送單元，其傳送行進方向為進入該局部蝕刻槽內。

10.如權利要求8所述的局部蝕刻裝置，其特征在于，該局部蝕刻裝置還包括定位單元，耦接該傳送單元，用以控制該傳送單元將該物體傳送至該局部蝕刻槽內的定位。