[實(shí)用新型]一種平面度測量裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320405199.7 | 申請日: | 2013-07-09 |
| 公開(公告)號: | CN203422084U | 公開(公告)日: | 2014-02-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王民生;黃善球;李躍初;周志強(qiáng);王團(tuán)結(jié) | 申請(專利權(quán))人: | 江陰新仁科技有限公司 |
| 主分類號: | G01B21/30 | 分類號: | G01B21/30 |
| 代理公司: | 江陰大田知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32247 | 代理人: | 陳建中 |
| 地址: | 214400 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 平面 測量 裝置 | ||
1.一種平面度測量裝置,其特征在于:包括底座,所述的底座上開設(shè)有的中心滑槽,所述的中心滑槽的兩側(cè)分別開設(shè)有傾斜設(shè)置的側(cè)滑槽,兩側(cè)的所述的側(cè)滑槽相對所述的中心滑槽對稱設(shè)置,所述的底座上設(shè)置有托架,所述的托架上設(shè)置有兩個支撐滾輪,兩個所述的支撐滾輪分別位于所述的中心滑槽的兩側(cè),所述的托架位于所述的側(cè)滑槽的下方,所述的中心滑槽以及兩側(cè)的所述的側(cè)滑槽內(nèi)分別滑動設(shè)置有至少一個傳感器,所述的傳感器分別與監(jiān)視器相連接。
2.如權(quán)利要求1所述的平面度測量裝置,其特征在于:所述的托架沿著所述的中心滑槽的長度方向與所述的底座相滑動設(shè)置。
3.如權(quán)利要求2所述的平面度測量裝置,其特征在于:所述的中心滑槽的兩側(cè)開設(shè)有與其相平行的托架導(dǎo)向槽,所述的托架包括滑動座、與所述的滑動座相固定連接的托架本體,所述的滑動座上設(shè)置有兩個凸起,所述的凸起滑動插設(shè)于相應(yīng)的所述的托架導(dǎo)向槽內(nèi)。
4.如權(quán)利要求3所述的平面度測量裝置,其特征在于:所述的托架本體呈V形,兩個所述的支撐滾輪分別設(shè)置于所述的托架本體的兩端部。
5.如權(quán)利要求3所述的平面度測量裝置,其特征在于:兩側(cè)的所述的支撐滾輪的最高點(diǎn)的連線與所述的中心滑槽的中心線相垂直;兩側(cè)的所述的支撐滾輪沿著所述的托架本體的V形面滑動設(shè)置。
6.如權(quán)利要求1所述的平面度測量裝置,其特征在于:所述的中心滑槽以及兩側(cè)的所述的側(cè)滑槽內(nèi)的傳感器均位于同一平面。
7.如權(quán)利要求6所述的平面度測量裝置,其特征在于:所述的中心滑槽的長度大于所述的底座的半徑且小于其直徑,所述的側(cè)滑槽的長度小于所述的底座的半徑。
8.如權(quán)利要求1所述的平面度測量裝置,其特征在于:兩側(cè)的所述的側(cè)滑槽之間的角度為120°。
9.如權(quán)利要求1所述的平面度測量裝置,其特征在于:所述的中心滑槽以及所述的側(cè)滑槽的至少一側(cè)設(shè)置有標(biāo)尺。
10.如權(quán)利要求1所述的平面度測量裝置,其特征在于:所述的底座的背部的上下兩端分別連接有調(diào)整座。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于江陰新仁科技有限公司,未經(jīng)江陰新仁科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320405199.7/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種槽楔切割機(jī)的送料機(jī)床
- 下一篇:耐高溫絕緣銅包鋁鎂合金絲





