[實用新型]煎烤機有效
| 申請號: | 201320381251.X | 申請日: | 2013-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN203447176U | 公開(公告)日: | 2014-02-26 |
| 發明(設計)人: | 朱華杰;楊建剛 | 申請(專利權)人: | 浙江蘇泊爾家電制造有限公司 |
| 主分類號: | A47J37/06 | 分類號: | A47J37/06;A47J37/10 |
| 代理公司: | 浙江杭州金通專利事務所有限公司 33100 | 代理人: | 趙芳;徐關壽 |
| 地址: | 310052 浙江省杭州市杭*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 煎烤機 | ||
技術領域
本實用新型涉及廚房電器技術領域,特別涉及一種煎烤機。
背景技術
現有煎烤機,一般家庭主要用于烤餅,烤肉等煎烤食物。加熱的方式一般是下烤盤置于發熱裝置上,由加熱裝置發熱將熱量傳至下烤盤。工作時,食物直接放置于下烤盤上,由下烤盤導熱至食物,從而達到給食物加熱的目的。但是煎烤機工作時,食物營養容易流失,且在煎烤食物時熱量容易走失,不能充分利用。
故,有必要對上述缺陷進行改進。
發明內容
本實用新型的目的是提供了煎烤機,其可以在煎烤食物時密封煎烤區,使營養不流失,同時可以有效減少熱量散失。
為實現上述目的,本實用新型提供一種煎烤機,包括下盤及與下盤蓋合的上盤,所述下盤包括下烤盤、用于安裝所述下烤盤的下盤座及設于所述下烤盤與下盤座之間的發熱裝置,所述上盤包括上烤盤及安裝所述上烤盤的上盤座,其特征在于,所述上烤盤與下烤盤蓋合以形成煎烤食物的煎烤區及用于密封所述煎烤區的密封區;所述密封區包括設于上烤盤的凸緣,及設于下烤盤用于容納水的密封凹槽,所述凸緣與密封凹槽相適配且環繞所述煎烤區設置使煎烤機上盤與下盤蓋合煎烤食物時煎烤區水密封。
進一步,所述發熱裝置設于煎烤區底部
進一步,所述下烤盤為可拆設置。
進一步,所述凸緣與上烤盤一體沖壓成型。
進一步,所述上盤與下盤蓋合時,凸緣的底面與密封凹槽的底面相距1mm~5mm。
進一步,所述過渡部與下烤盤一體沖壓成型。
根據本實用新型的技術方案,在煎烤區外設有密封區,密封區包括設于上烤盤的凸緣、設于下烤盤的密封凹槽。使用時,在密封凹槽中注入水,蓋合上盤使凸緣伸入密封凹槽,凸緣與密封凹槽的間隙處通過水填充,從而實現煎烤區的密封。
附圖說明
下面將結合附圖及實施例對本實用新型作進一步說明,附圖中:
圖1是本實用新型煎烤機結構圖。
圖2是本實用新型煎烤機上烤盤結構圖。
圖3是本實用新型煎烤機下烤盤結構圖。
圖4是本實用新型煎烤機上烤盤與下烤盤配合后剖面圖。
圖中,下盤—1;上盤—2;煎烤區—3;密封區—4;下烤盤—11;下盤座—12;發熱裝置—13;反射罩—14;過渡部—15;上烤盤—21;上盤座—22;凸緣—41;密封凹槽—42。
具體實施方式
為了使本實用新型的目的、技術方案和優點更加清楚明白,下面結合實施例和附圖,進一步對本實用新型詳細說明:
為克服現有技術煎烤機散熱過快,煎烤食物時有營養流失等缺點,本實用新型提供了一種煎烤機,其可將煎烤區進行水密封,從而使得煎烤機煎烤食物時大部分熱量保持在煎烤區,同時營養也保持在煎烤區,使其不易流失。
如圖1所示,本實用新型提供的煎烤機包括下盤1及與下盤1蓋合的上盤2,所述下盤1包括下烤盤11、用于安裝所述下烤盤11的下盤座12及設于所述下烤盤11與下盤座12之間的發熱裝置13,所述上盤2包括上烤盤21及安裝所述上烤盤21的上盤座22,所述上烤盤21與下烤盤11蓋合以形成煎烤食物的煎烤區3及用于密封所述煎烤區3的密封區4;所述密封區4包括設于上烤盤21的凸緣41,及設于下烤盤21上用于容納水的密封凹槽42,所述凸緣41與密封凹槽42相適配且環繞所述煎烤區設置使煎烤機上盤2與下盤1蓋合煎烤食物時煎烤區3水密封。
當使用具有本實用新型技術方案的煎烤機時,只需往密封凹槽42中注入水,然后將待煎烤的食物放入煎烤區3,合上上盤2。在合上上盤2時,注入的水應使其至少淹沒凸緣41的底部,鑒于在煎烤機烹飪過程中,水分會受熱蒸發而不斷散失,所以注入的水應當高于凸緣41的底面。按動啟動程序,待煎烤的食物在煎烤區3內進行烹飪,由于水密封的存在,營養保持在煎烤區3。而同時由于水的導熱系數比金屬低,所以在煎烤機烹飪過程中熱量容易保持在煎烤區3。另外,部分的水分蒸發可以使煎烤區3內保持濕潤的環境,使烹飪出的食物不易焦干。
需要說明的是,本實用新型涉及的凸緣41的底面是指凸緣41靠近密封凹槽42方向的底面。
根據一種通常的設置,上述上盤座22與下盤座12還分別包括有一個反射罩14,發熱裝置13安裝于反射罩14之上,該反射罩14可用于反射加熱裝置13的熱輻射,可使熱輻射集中于烤盤上,提高煎烤機的熱效率。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于浙江蘇泊爾家電制造有限公司,未經浙江蘇泊爾家電制造有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320381251.X/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





