[實用新型]安檢機行李通過過程中減少輻射泄漏量的裝置

有效

• 申請號: 201320369591.0
• 申請日: 2013-06-25
• 公開（公告）號: CN203325480U
• 公開（公告）日: 2013-12-04
• 發明（設計）人: 楊邦達;彭寧嵩;吳家榮
• 申請（專利權）人: 上海高晶影像科技有限公司
• 主分類號: G21F3/00
• 分類號: G21F3/00
• 代理公司: 上海光華專利事務所 31219
• 代理人: 雷紹寧

1.一種安檢機行李通過過程中減少輻射泄漏量的裝置，包括機箱（1）、輸送帶（2）、以及設在機箱（1）入口和出口處的第一屏蔽簾（3），其特征在于：所述第一屏蔽簾（3）的內側或外側設有與機箱（1）相連接的第二屏蔽簾（4），所述第二屏蔽簾（4）的下端向下延伸至輸送帶（2）的上表面，所述第一屏蔽簾（3）與第二屏蔽簾（4）之間形成一密閉空間。

2.根據權利要求1所述的安檢機行李通過過程中減少輻射泄漏量的裝置，其特征在于：所述第二屏蔽簾（4）位于第一屏蔽簾（3）的外側，所述機箱（1）入口和出口處均設有一位于機箱（1）外部、且與機箱（1）相連接的安裝架（5），所述安裝架（5）設有一頂板（52），所述頂板（52）上設有多個并排的第一掛鉤（53），所述第二屏蔽簾（4）上設有掛在第一掛鉤（53）上的掛孔（41）。

3.根據權利要求2所述的安檢機行李通過過程中減少輻射泄漏量的裝置，其特征在于：所述頂板（52）內表面上設有一襯板（54），所述第一掛鉤（53）設在所述襯板（54）上。

4.根據權利要求1所述的安檢機行李通過過程中減少輻射泄漏量的裝置，其特征在于：所述第二屏蔽簾（4）位于第一屏蔽簾（3）的內側，還包括位于機箱（1）內、且固定在機箱頂板上的兩個安裝板（6），所述安裝板（6）上設有一開口向下的倒U形槽（61），所述倒U形槽（61）內設有多個并排的第二掛鉤（62），所述第二屏蔽簾（4）上設有掛在第二掛鉤（62）上的掛孔（41）。

5.根據權利要求1所述的安檢機行李通過過程中減少輻射泄漏量的裝置，其特征在于：所述第一屏蔽簾（3）與第二屏蔽簾（4）之間的間距L為110～120mm。

6.根據權利要求5所述的安檢機行李通過過程中減少輻射泄漏量的裝置，其特征在于：所述間距L為115mm。

7.根據權利要求1-4任一項所述的安檢機行李通過過程中減少輻射泄漏量的裝置，其特征在于：所述第一屏蔽簾（3）、第二屏蔽簾（4）均為鉛簾。