[實(shí)用新型]一種薄膜硅、晶體硅異質(zhì)結(jié)雙面太陽(yáng)能電池有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320368509.2 | 申請(qǐng)日: | 2013-06-25 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN203351632U | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-12-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳五奎;劉強(qiáng);李粉莉;盛國(guó)浩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳市拓日新能源科技股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/077 | 分類號(hào): | H01L31/077;H01L31/0352;H01L31/02 |
| 代理公司: | 深圳中一專利商標(biāo)事務(wù)所 44237 | 代理人: | 張全文 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 薄膜 晶體 硅異質(zhì)結(jié) 雙面 太陽(yáng)能電池 | ||
1.一種薄膜硅、晶體硅異質(zhì)結(jié)雙面太陽(yáng)能電池,其特征在于,包括由上到下依次層疊的受光面電極、受光面透明導(dǎo)電層、P型非晶硅層、受光面本征非晶硅層、N型晶體硅層、背光面本征非晶硅層、N型重?fù)诫s非晶硅層、背光面透明導(dǎo)電層、背光面電極,所述P型非晶硅層、所述受光面本征非晶硅層與所述N型晶體硅層形成太陽(yáng)能電池器件的正面異質(zhì)PN結(jié),所述N型晶體硅層、所述背光面本征非晶硅層與所述N型重?fù)诫s非晶硅層形成太陽(yáng)能電池器件的背面電場(chǎng)層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種薄膜硅、晶體硅異質(zhì)結(jié)雙面太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述受光面透明導(dǎo)電層的厚度為1~50nm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種薄膜硅、晶體硅異質(zhì)結(jié)雙面太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述P型非晶硅層的厚度為1~50nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種薄膜硅、晶體硅異質(zhì)結(jié)雙面太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述受光面本征非晶硅層的厚度為1~30nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種薄膜硅、晶體硅異質(zhì)結(jié)雙面太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述N型晶體硅層的厚度為1~300μm。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種薄膜硅、晶體硅異質(zhì)結(jié)雙面太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述背光面本征非晶硅層的厚度為1~30nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種薄膜硅、晶體硅異質(zhì)結(jié)雙面太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述N型重?fù)诫s非晶硅層的厚度為1~50nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種薄膜硅、晶體硅異質(zhì)結(jié)雙面太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述背光面透明導(dǎo)電層的厚度為1~50nm。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門(mén)適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門(mén)適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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