[實用新型]一種西門子法生產(chǎn)多晶硅工藝中還原爐的進料噴嘴

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320367774.9
• 申請日: 2013-06-25
• 公開（公告）號: CN203474466U
• 公開（公告）日: 2014-03-12
• 發(fā)明（設計）人: 潘璽;燕軍;崔建平
• 申請（專利權）人: 內(nèi)蒙古同遠企業(yè)管理咨詢有限責任公司
• 主分類號: C01B33/035
• 分類號: C01B33/035
• 代理公司: 北京世譽鑫誠專利代理事務所(普通合伙) 11368
• 代理人: 孫國棟

技術領域

本實用新型涉及一種西門子法生產(chǎn)多晶硅工藝中還原爐的進料噴嘴。?

背景技術

現(xiàn)有的西門子法生產(chǎn)多晶硅工藝中，因還原爐進料噴嘴的設計缺陷，導致硅棒表面玉米粒的出現(xiàn)以及硅棒上下直徑的不同，造成倒棒現(xiàn)象，為生產(chǎn)帶來了安全隱患及物料的浪費。?

發(fā)明內(nèi)容

本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術中的不足之處，提供一種解決還原爐進料噴嘴造成硅棒表面出現(xiàn)玉米粒及直徑不均勻造成倒棒現(xiàn)象的西門子法生產(chǎn)多晶硅工藝中還原爐的進料噴嘴。?

為了實現(xiàn)本實用新型的目的，我們將采用如下技術方案予以實施：?

一種西門子法生產(chǎn)多晶硅工藝中還原爐的進料噴嘴，所述的進料噴嘴的下端通過外螺紋固定在還原爐的底盤上，上端開有一中心孔，中心孔為圓柱形的通孔，其特征在于：所述的中心孔的上端進行60度斜角的擴孔，并在中心孔的四周均布有四個螺旋孔。?

有益效果?

原有還原爐進料噴嘴中心孔只是一個圓柱形的通孔，圓柱形的中心孔不能保證氣體在還原爐內(nèi)的濃度均勻性，會造成硅棒表面及直徑的不均勻。本實用新型中將中心孔做了改進，將中心孔的上端進行了?60度斜角的擴孔，這樣就保證了氣體濃度的均勻性，實現(xiàn)了硅棒表面及直徑的均勻性，減少了倒棒現(xiàn)象。?

原有還原爐進料噴嘴只有一個中心孔，雖然進行了擴孔，但還原爐內(nèi)氣體濃度的均勻性還是不理想，在本實用新型中還增加了螺旋狀的側孔，即在中心孔四周開四個均布的螺旋孔，螺旋孔會使通過側孔的氣體呈螺旋狀上升，有利于增加硅棒頂部的物料濃度，使硅棒橫梁位置生產(chǎn)的更好，更結實，可以有效的降低生產(chǎn)后期的倒棒現(xiàn)象。?

附圖說明

圖1為原有的進料噴嘴結構示意圖；?

圖2為改進后的進料噴嘴結構示意圖；?

圖3為改進后的進料噴嘴的螺旋孔分布示意圖；?

1為中心孔、2為螺旋孔、3為外螺紋。?

具體實施方式

參考圖1、圖2和圖3所示，對本實用新型做進一步地說明。?

根據(jù)圖1所示，一種西門子法生產(chǎn)多晶硅工藝中還原爐的進料噴嘴，其通過外螺紋3固定在還原爐的底盤上，上端開有一圓柱形的中心孔1。?

圖2所示的一種西門子法生產(chǎn)多晶硅工藝中還原爐的進料噴嘴，是在圖1所示的一種改良西門子法生產(chǎn)多晶硅工藝中還原爐的進料噴嘴的基礎上，對進料噴嘴進行了改造，將中心孔1上端進行了60度斜角的擴孔，并在中心孔1的四周均布有四個螺旋孔2。?

圖3所示的是一種改進后的進料噴嘴螺旋孔2分布情況。?