[實用新型]一種液相外延襯底化學拋光系統

有效

• 申請號: 201320360968.6
• 申請日: 2013-06-21
• 公開（公告）號: CN203380705U
• 公開（公告）日: 2014-01-08
• 發明（設計）人: 張娟;魏彥鋒;孫權志;孫瑞赟;陳倩男
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海技術物理研究所
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 郭英

1.一種液相外延襯底化學拋光系統，其特征在于：所述的化學拋光系統采用了襯底真空吸附系統和警鈴提醒裝置；

所述的襯底真空吸附系統包括可調節真空度大小的機械泵（1）和通過真空橡膠管（2）連接的樣品盤（4），所述的樣品盤（4）的內部是一空心腔體，腔體的開口處與橡膠管（2）通過螺紋接口（3）相連，與腔體開口相反的一面是一凹槽，凹槽的底部布滿了與腔體相通的小細孔，外延襯底通過真空作用吸附在樣品盤（4）的這一面上；

所述的警鈴提醒裝置由導線依次串聯連接固定在拋光臺（11）上的銅環（6）、直流電源（10）和報警器（8）、及固定在樣品盤（4）上的銅片（7）所構成，當銅片（7）和銅環（6）相互接觸時，警鈴提醒裝置就會形成完整的閉合串聯電路發出提示音；在拋光過程中，當襯底（9）的厚度和樣品盤（4）凹槽的深度相等時，銅片（7）和銅環（6）相互接觸，報警器（8）提示拋光工序結束。