[實用新型]放射劑量測量裝置

有效

• 申請號: 201320355619.5
• 申請日: 2013-06-20
• 公開（公告）號: CN203337825U
• 公開（公告）日: 2013-12-11
• 發明（設計）人: 宋啟斌;張軍;阮長利
• 申請（專利權）人: 張軍
• 主分類號: G01T1/08
• 分類號: G01T1/08
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型屬于醫用放射劑量測量領域，具體涉及一種放射劑量測量裝置。

背景技術

目前對放射治療的劑量測量主要有三種方法，第一種是膠片測量：使用膠片進行放療劑量的測量驗證，方法是將膠片夾在模體中進行測量，第二種是使用非晶硅探測器，第三種是使用電離室矩陣進行測量。使用膠片測量，由于膠片需要沖洗，使用不方便，后來雖然采用免沖膠片但還是需要手工使用掃描儀到計算機中，使用依然不方便不快捷；使用非晶硅平板進行劑量測量和驗證具有成像面積大，分辨率高，但是由于直線加速器的射線能量很高，容易造成非晶硅平板損傷，實用性較差；使用電離室矩陣比較耐用但是由于電離室本身具有一定的體積，所以導致測量分辨率也較低。

發明內容

本實用新型的目的是提供一種結構簡單、使用方便快捷且分辨率高、測量精確度高的放射劑量測量裝置。

實現本實用新型目的的技術方案是：一種放射劑量測量裝置，包括劑量建成模體、閃爍屏、射線反向散射模體、光學鏡片組、感光元件和處理電路，所述閃爍屏設置在所述劑量建成模體與射線反向散射模體之間，所述射線反向散射模體與所述閃爍屏緊密貼合，所述感光元件與所述處理電路電連接，所述閃爍屏將不可見X射線轉換為可見光，所述光學鏡片組接收閃爍屏發出的光線并聚焦到感光元件，所述射線反向散射模體的反向散射線散射至閃爍屏上。X射線打擊在射線反向散射模體上并在射線反向散射模體上的各個部分包括中心的地方都會產生各個方向的散射，一部分反向反射至閃爍屏上，為閃爍屏提供足夠的反向散射線，所述劑量建成模體與所述閃爍屏分離式配合。采用分離式設計，在使用時將劑量建成模體放置，在不使用時將劑量建成模體取下，使用方便快捷。

或所述劑量建成模體與所述閃爍屏固定連接。

所述射線反向散射模體是能夠為閃爍屏提供充足反向散射射線的透明材料模體，使測量更加接近真實照射情況，由于其高透光性，而不會影響到閃爍屏產生的可見光的通透。

所述感光元件為CCD或CMOS芯片或光電二極管陣列。

所述光學鏡片組包括反射鏡、光學透鏡或光導纖維。

所述閃爍屏用于將不可見的X射線圖像轉變為可見光像，一般由碘化銫或硫氧化釓等材料制成。

還包括感光元件射線屏蔽裝置。可有效的屏蔽射線直接打至感光元件上產生白色噪聲影響測量精度，一定程度上提高了測量精度。本實用新型中感光元件射線屏蔽裝置是直接在感光元件周圍包裹厚厚的高密度屏蔽金屬，以防止X射線作用在感光元件上產生白斑噪聲。或是由金屬制成有拐角的迷道的方式，其配合反射鏡等鏡片能達到理想的屏蔽效果。或是在上述的兩種方法中加入鉛玻璃等透明的射線屏蔽，該屏蔽位于光學通路上，可以是在光學鏡片組和CCD之間也可以是在光學鏡片中組成光學鏡片的一部分，也可以是在閃爍屏和光學鏡片組之間，因為高透光，所以較小影響到光線聚焦到感光元件上，達到理想的屏蔽效果。

所述感光元件、光學鏡片組、射線反向散射模體、閃爍屏設置在光學密閉環境中。

本實用新型具有積極的效果：本實用新型的結構簡單、使用方便快捷，設有射線反向散射模體，使測量的劑量更符合真實照射時的情況，而且可以有效避免閃爍屏直接與空氣形成界面而導致劑量在測量位置急劇變化而測量不準確，一定程度上提高了分辨率高以及測量精確度，實用性好。

附圖說明

為了使本實用新型的內容更容易被清楚的理解，下面根據具體實施例并結合附圖，對本實用新型作進一步詳細的說明，其中：

圖1為本實用新型的結構示意圖。

具體實施方式

(實施例1)

圖1顯示了本實用新型的一種具體實施方式，其中圖1為本實用新型的結構示意圖。