[實用新型]光增益介質(zhì)包邊界面剩余反射的測量裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320340378.7 | 申請日： | 2013-06-14 |
| 公開（公告）號： | CN203337544U | 公開（公告）日： | 2013-12-11 |
| 發(fā)明（設計）人： | 董敬濤;吳周令;陳堅 | 申請（專利權(quán)）人： | 合肥知常光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G01N21/55 | 分類號： | G01N21/55;G01N21/01 |
| 代理公司： | 合肥天明專利事務所 34115 | 代理人： | 金凱 |
| 地址： | 230031 安徽省合肥市高新*** | 國省代碼： | 安徽;34 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 增益 介質(zhì) 邊界 剩余 反射 測量 裝置 | ||
1.光增益介質(zhì)包邊界面剩余反射的測量裝置，其特征在于：包括有測量激光光源、分光鏡、激光強度探測器和剩余反射探測器，所述的測量激光光源相對分光鏡的反射面設置，激光強度探測器相對分光鏡的透射面設置，剩余反射探測器相對激光玻璃樣品的激光出射面設置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光增益介質(zhì)包邊界面剩余反射的測量裝置，其特征在于：所述的測量激光光源和分光鏡之間設置有功率調(diào)整裝置和光束整形裝置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光增益介質(zhì)包邊界面剩余反射的測量裝置，其特征在于：所述的光增益介質(zhì)包邊界面剩余反射的測量裝置還包括有定位激光光源，定位激光光源相對分光鏡的反射面設置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光增益介質(zhì)包邊界面剩余反射的測量裝置，其特征在于：所述的光增益介質(zhì)包邊界面剩余反射的測量裝置還包括有信號處理部分，所述的信號處理部分包括有分別與激光強度探測器和剩余反射探測器連接的電信號處理模塊和與電信號處理模塊連接的計算機。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光增益介質(zhì)包邊界面剩余反射的測量裝置，其特征在于：所述的測量激光光源和激光玻璃樣品之間設置有角度調(diào)整裝置。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光增益介質(zhì)包邊界面剩余反射的測量裝置，其特征在于：所述的角度調(diào)整裝置由高反鏡和分光鏡組合而成。
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