[實用新型]測量波像差的系統有效
| 申請號： | 201320339373.2 | 申請日： | 2013-06-09 |
| 公開（公告）號： | CN203365912U | 公開（公告）日： | 2013-12-25 |
| 發明（設計）人： | 趙衛;張周鋒;謝永軍;康福增 | 申請（專利權）人： | 中國科學院西安光學精密機械研究所 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G01M11/02 |
| 代理公司： | 西安智邦專利商標代理有限公司 61211 | 代理人： | 姚敏杰 |
| 地址： | 710119 陜西省西*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 測量 波像差 系統 | ||
【權利要求書】：
1.一種測量波像差的系統，包括干涉儀以及與干涉儀處于同一光路上的平面反射系統；待測光學系統置于干涉儀和平面反射系統之間；其特征在于：所述平面反射系統是液體反射鏡；所述干涉儀、待測光學系統以及液體反射鏡自上而下依次設置在同一光路上。
2.根據權利要求1所述的測量波像差的系統，其特征在于：所述液體反射鏡是甘油液體反射鏡、礦物油液體反射鏡、植物油液體反射鏡或水銀液體反射鏡。
3.根據權利要求1或2所述的測量波像差的系統，其特征在于：所述測量波像差的系統還包括固定支架；所述固定支架包括用于安裝干涉儀的干涉儀工裝以及用于安裝待測光學系統的待測光學系統工裝。
4.根據權利要求3所述的測量波像差的系統，其特征在于：所述測量波像差的系統還包括隔振平臺；所述固定支架設置在隔振平臺上。
5.根據權利要求4所述的測量波像差的系統，其特征在于：所述隔振平臺上設置有液槽；所述構成液體反射鏡的液體置于液槽中。
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