[實(shí)用新型]改進(jìn)的止滑鞋底有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320339048.6 | 申請(qǐng)日: | 2013-06-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN203290311U | 公開(公告)日: | 2013-11-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 倪國(guó)標(biāo) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 晉江瑞弘鞋材有限公司 |
| 主分類號(hào): | A43B13/12 | 分類號(hào): | A43B13/12;A43B13/22 |
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| 地址: | 362200 福*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 改進(jìn) 鞋底 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種鞋底,尤其涉及一種改進(jìn)的止滑鞋底。
背景技術(shù)
鞋是人類日常生活必備品,鞋主要由鞋面、鞋幫和鞋底構(gòu)成,鞋底是鞋與地面直接接觸的部分,它直接受到地面的沖擊、磨擦,對(duì)鞋底部和腳起保護(hù)作用。鞋底需要防滑、耐磨并具有適當(dāng)彈性,為增強(qiáng)鞋底的防滑功能,通常都是在鞋底面設(shè)置各種形狀的溝槽從而形成防滑花紋,利用花紋來增加鞋底與地面的摩擦力,提高鞋子的防滑效果。但這種突起的防滑花紋與地面接觸時(shí),仍然為局部平面接觸,接觸面較為寬大,且接觸面上沒有排水槽或排油槽,使得鞋子踩到水、油等液體時(shí),局部平面接觸到的水、油不能在鞋底與地面之間完全排出,使得鞋底與地面之間形成一層水面或油面,導(dǎo)致鞋底與地問的附著力差,鞋底易打滑。
有鑒于此,本發(fā)明人針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中鞋底的上述缺陷深入研究,遂有本案產(chǎn)生。
實(shí)用新型內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的上述不足之處,本實(shí)用新型的目的在于提供一種改進(jìn)的止滑鞋底,它加工簡(jiǎn)單、生產(chǎn)成本低,鞋底在濕熱介質(zhì)中也具有優(yōu)良的防滑、止滑功能,且外形美觀。
為了達(dá)到上述之目的,本實(shí)用新型采用如下具體技術(shù)方案:?
改進(jìn)的止滑鞋底,包括鞋底本體,鞋底本體由橡膠制作的底層和EVA制作的上層通過發(fā)泡形成,所述底層前后跟表面兩邊設(shè)有凸塊,其中部設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)橢圓形凸柱,復(fù)數(shù)個(gè)橢圓形凸柱通過支撐桿連接,橢圓形凸柱的中心設(shè)有橢圓槽,所述凸塊上設(shè)有向外側(cè)開口的缺槽。
????進(jìn)一步,本實(shí)用新型所述橢圓形凸柱外側(cè)設(shè)有一階臺(tái)。
本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比的優(yōu)點(diǎn)是:由于設(shè)有以上結(jié)構(gòu),該鞋底制作工序簡(jiǎn)單,加工生產(chǎn)容易,即使是對(duì)餐館、廚房等有熱水、油的磁磚地面,仍具有很好的止滑效果。?
附圖說明
圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖;?
下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)說明。?
具體實(shí)施方式
為了進(jìn)一步解釋本實(shí)用新型的技術(shù)方案,下面通過具體實(shí)施例來對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)闡述。
實(shí)施例1:
參照?qǐng)D1所示,改進(jìn)的止滑鞋底,包括鞋底本體1,鞋底本體1由橡膠制作的底層2和EVA制作的上層3通過發(fā)泡形成,行走時(shí)底層直接給地面接觸,采用橡膠材質(zhì)制作的底層2具有耐磨作用,EVA制作的上層3具減震又柔軟,并且通過鞋墊與人體的腳底接觸,穿著更舒適,所述底層2前后跟表面兩邊設(shè)有凸塊4,其中部設(shè)有復(fù)數(shù)個(gè)橢圓形凸柱5,復(fù)數(shù)個(gè)橢圓形凸柱5通過支撐桿6連接,橢圓形凸柱5的中心設(shè)有橢圓槽7,所述凸塊4上設(shè)有向外側(cè)開口的缺槽8,所述橢圓形凸柱5外側(cè)還設(shè)有一階臺(tái)9,增加橢圓形凸柱與地面的摩擦,該鞋底制作工序簡(jiǎn)單,加工生產(chǎn)容易,即使是對(duì)餐館、廚房等有熱水、油的磁磚地面,仍具有很好的止滑效果。
但是,上述的具體實(shí)施方式只是示例性的,是為了更好的使本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解本專利,不能理解為是對(duì)本專利包括范圍的限制;只要是根據(jù)本專利所揭示精神的所作的任何等同變更或修飾,均落入本專利包括的范圍。
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