[實用新型]一種水溫可調的硅片清洗裝置有效
| 申請號: | 201320338409.5 | 申請日: | 2013-06-13 |
| 公開(公告)號: | CN203265123U | 公開(公告)日: | 2013-11-06 |
| 發明(設計)人: | 柳廷全 | 申請(專利權)人: | 宇駿(濰坊)新能源科技有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/02 | 分類號: | B08B3/02;B08B13/00 |
| 代理公司: | 濰坊正信專利事務所 37216 | 代理人: | 王秀芝 |
| 地址: | 261061 山東省濰坊*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 水溫 可調 硅片 清洗 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及硅片生產設備技術領域,尤其涉及一種水溫可調的硅片清洗裝置。
背景技術
隨著大規模集成電路的發展,集成度的不斷提高,線寬的不斷減小,對硅片的質量要求也越來越高,然而在硅片的每道加工工續中,硅片的清洗都至關重要,影響著制造出產品例如單晶太陽能電池的質量。
目前市場上銷售的單晶太陽能電池,其中的硅片多采用槽式堿制絨工藝,工藝溫度在70℃以上,制絨后的硅片從制絨槽出來表面溫度較高,且由于硅片的運輸時間相對較長,表面的硅酸鈉在進入清洗槽前會變干,不易清洗干凈,導致制得的電池片表面有硅酸鈉殘留,影響電池片外觀。因此在出制絨槽時,及時清洗硅片會使硅片的質量得到保證,清洗時水的溫度對清洗潔凈程度有重要的影響,那么設計一種水溫可調的硅片清洗裝置是本領域技術人員急需解決的技術問題。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種水溫可調的硅片清洗裝置,旨在解決清洗硅片時不能調節水溫的問題。
為解決上述技術問題,本實用新型的技術方案是:一種水溫可調的硅片清洗裝置包括清洗支架,均勻設置在所述清洗支架上的若干噴頭,以及給所述噴頭供水的供水管,所述供水管的進水端設有與其連通的熱水支管和冷水支管,在所述熱水支管和所述冷水支管上分別設有閥門。
優選方式為,在所述供水管的進水端設有溫度表。
優選方式為,所述閥門為手動閥門。
采用上述技術方案后,本實用新型的有益效果是:由于本實用新型所述的水溫可調的硅片清洗裝置包括清洗支架以及均勻設置在所述清洗支架上的噴頭,還包括給所述噴頭供水的供水管,所述供水管的進水端設有與其連通的熱水支管和冷水支管,在所述熱水支管和所述冷水支管上分別設有閥門。在清洗硅片時,可通過不同的工序,不同的環境調節水溫。水溫是通過供水管上設有的連通的熱水支管和冷水支管來調節的。由于在熱水支管和冷水支管上分別設有閥門,可通過調節閥門,來控制熱水的進水量和冷水的進水量,兩股進水在供水管內混合,兩股水的進水量不同,可實現不同溫度的供水,就實現了不同溫度的水來清洗硅片。本實用新型結構簡單,使用方便。
附圖說明
圖1是本實用新型實施例的結構示意圖;
1-噴頭、2-熱水支管、3-冷水支管、4-閥門、5-清洗支架、6-供水管、7-溫度表。
具體實施方式
為了使本實用新型的目的、技術方案及優點更加清楚明白,以下結合附圖及實施例,對本實用新型進行進一步詳細說明。應當理解,此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本實用新型,并不用于限定本實用新型。
如圖1所示,一種水溫可調的硅片清洗裝置,包括清洗支架5,均勻設置在該清洗支架5上的若干噴頭1,以及給該噴頭1供水的供水管6,該供水管6的進水端設有與其連通的熱水支管2和冷水支管3,在該熱水支管2和所述冷水支管3上分別設有手動閥門4。在供水管6的進水端還設有溫度表7。
在清洗硅片時,可通過不同的工序,不同的環境調節水溫。水溫是通過供水管6上設有的連通的熱水支管2和冷水支管3來調節的。由于在熱水支管2和冷水支管3上分別設有手動閥門4,可調節通過手動閥門4,來控制熱水的進水量和冷水的進水量,兩股進水在供水管6內混合,兩股水的進水量不同,可實現不同溫度的供水,就實現了不同溫度的水來清洗硅片,可以通過觀察溫度表7的溫度,來判斷供水管6內的水溫。本實用新型結構簡單,使用方便。
以上所述本實用新型的較佳實施例而已,并不用以限制本實用新型,凡在本實用新型的精神和原則之內所作的任何修改、等同替換和改進等,均應包含在本實用新型的保護范圍之內。
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