[實用新型]一種等離子刻蝕設備的基片定位升降裝置

有效

• 申請號: 201320335752.4
• 申請日: 2013-06-08
• 公開（公告）號: CN203481201U
• 公開（公告）日: 2014-03-12
• 發明（設計）人: 張欽亮;平志韓;蘇靜洪;王謨;陳騮
• 申請（專利權）人: 天通吉成機器技術有限公司
• 主分類號: H01L21/68
• 分類號: H01L21/68;H01L21/687;H01L21/677
• 代理公司: 浙江杭州金通專利事務所有限公司 33100
• 代理人: 趙芳;黃芳

1.等離子刻蝕設備的基片定位升降裝置，其特征在于：包括固定于反應腔體的下電極，設置于下電極上的基片卡盤，承接片盤的頂針升降機構和使基片精確定位的壓環升降機構；壓環升降機構包括底座，活動板，壓緊環和連接活動板與壓緊環的升降桿，以及帶動活動板升降的壓環升降驅動裝置；升降桿與導向其升降的導向機構連接，壓環升降驅動裝置固定于底座上；壓環升降驅動裝置使壓緊環將基片壓緊于基片卡盤上；頂針升降機構包括托持基片的頂針，與頂針下端固定連接的基座和頂針升降驅動裝置，頂針升降驅動裝置固定于下電極上，頂針升降驅動裝置的輸出軸與基座固定連接，頂針穿出所述的下電極。

2.如權利要求1所述的等離子刻蝕設備的基片定位升降裝置，其特征在于：所述的導向機構包括與底座固定連接的導向板，導向板、活動板和底座依次從上到下設置，升降桿穿過所述的導向板，導向板上設有與升降桿配合的導向法蘭。

3.如權利要求2所述的等離子刻蝕設備的基片定位升降裝置，其特征在于：導向板與底座之間設有連桿，連桿的上端與導向板固定，連桿的下端與底座固定，連桿穿過活動板。

4.如權利要求3所述的等離子刻蝕設備的基片定位升降裝置，其特征在于：導向板，活動板和底座均呈半圓環形，連桿的數量至少為3個，連桿等間隔的分布于底座上，升降桿的數量至少為3個，升降桿等間隔的分布于底座上。

5.如權利要求4所述的等離子刻蝕設備的基片定位升降裝置，其特征在于：升降桿包括主桿部和陶瓷桿部，主桿部與陶瓷桿部固定連接，陶瓷桿部連接壓緊環。

6.如權利要求1-5之一所述的等離子刻蝕設備的基片定位升降裝置，其特征在于：頂針升降機構的基座呈輪轂狀，頂針的數量至少為3個，頂針均勻地分布于基座的圓周上，頂針升降驅動裝置固定于基座中央。

7.如權利要求6所述的等離子刻蝕設備的基片定位升降裝置，其特征在于：頂針包括本體和陶瓷針，本體與陶瓷針通過螺紋連接，陶瓷針位于反應腔體內，本體位于下電極覆蓋的區域內。