[實用新型]基于磁原理去金屬導(dǎo)電物的凈化裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320333677.8
• 申請日: 2013-06-09
• 公開（公告）號: CN203320282U
• 公開（公告）日: 2013-12-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 武運兵;杜甫;嚴海林
• 申請（專利權(quán)）人: 上海宏和電子材料有限公司
• 主分類號: D06B23/20
• 分類號: D06B23/20
• 代理公司: 上海天協(xié)和誠知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 31216
• 代理人: 葉鳳

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及在一種基于磁原理去金屬導(dǎo)電物的凈化裝置，該裝置應(yīng)用于電子級玻璃纖維布制備技術(shù)領(lǐng)域，具體為在漿槽中除去金屬雜質(zhì)的磁塊安裝設(shè)計方案。

背景技術(shù)

目前電子產(chǎn)品向輕、薄、短、小化發(fā)展，帶動PCB高度集成化，孔/線及間距越來越小，越來越精細，對基材內(nèi)的雜質(zhì)也越來越敏感，尤其是金屬雜質(zhì)，因為電子級玻璃纖維布為絕緣增強材料，本身就不允許含有任何導(dǎo)電性物質(zhì)。在電子級玻璃纖維布生產(chǎn)過程中，電子級玻璃纖維紗線、布會接觸到金屬羅拉，漿槽中的漿料在泡制過程中也接觸到金屬桶及金屬輸送管道，因此難免產(chǎn)生金屬雜質(zhì)污染到電子級玻璃纖維布的表面，因此如何快速有效除去這些非常細小的金屬雜質(zhì)成為行業(yè)內(nèi)需要解決的課題。

實用新型內(nèi)容

本實用新型給出的技術(shù)方案為：?

包括一上漿槽，內(nèi)有配置的漿料，用于為經(jīng)紗上漿；

包括一下漿槽，槽口正對著供漿管出口，用于儲蓄漿料；?

包括輸漿管和泵，所述泵安裝于輸漿管上，輸漿管用于連接上漿槽和下漿槽，從而促使上漿槽和下漿槽之間漿料循環(huán)；泵送至上漿槽過滿時，溢出于上漿槽的漿料恰能傾瀉至下漿槽內(nèi)；

包括供漿管，為漿料源頭；

包括若干強力磁塊，分別設(shè)置于所述上漿槽、下漿槽的底部。

本實用新型技術(shù)方案，通過在漿槽中設(shè)計一些強力磁塊，依靠磁塊對部分金屬的吸引力來吸附并除去粘附在電子級玻璃纖維布漿紗段可能產(chǎn)出的金屬雜質(zhì)，提高電子級玻璃纖維布的絕緣品質(zhì)和等級。

附圖說明

圖1為本實用新型技術(shù)方案示意圖。

標記說明：上漿槽1、下漿槽2、羅拉3、供漿管4、輸漿管5、強力磁塊6、經(jīng)紗7、泵8。

具體實施方式

如圖1所示，整個裝置結(jié)構(gòu)設(shè)計為：

包括一上漿槽，內(nèi)有配置的漿料，用于為經(jīng)紗上漿；

包括一下漿槽，槽口正對著供漿管出口，用于儲蓄漿料；?

包括輸漿管和泵，所述泵安裝于輸漿管上，輸漿管用于連接上漿槽和下漿槽，從而促使上漿槽和下漿槽之間漿料循環(huán)；泵送至上漿槽過滿時，溢出于上漿槽的漿料恰能傾瀉至下漿槽內(nèi)；

包括供漿管，為漿料源頭；

包括若干強力磁塊，分別設(shè)置于所述上漿槽、下漿槽的底部。

在上下兩個漿槽的底部放置強力磁塊，在漿料循環(huán)和經(jīng)紗上漿過程中如果出現(xiàn)金屬雜質(zhì)則會被吸附于磁塊上，操作工定期清洗磁塊即可除去漿料中的金屬雜質(zhì)。