[實用新型]一種用于化學氣相沉積工藝的襯底及石墨盤

有效

• 申請號: 201320326603.1
• 申請日: 2013-06-06
• 公開（公告）號: CN203346473U
• 公開（公告）日: 2013-12-18
• 發明（設計）人: 田益西
• 申請（專利權）人: 光壘光電科技（上海）有限公司
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458;C23C16/00
• 代理公司: 深圳市銘粵知識產權代理有限公司 44304
• 代理人: 楊林;馬翠平

1.一種用于化學氣相沉積工藝的襯底，其特征在于：所述襯底呈扇形，所述扇形襯底的扇形圓心角為360°/N，其中N為大于等于2的自然數。

2.根據權利要求1所述的襯底，其特征在于，所述N為小于等于6的自然數。

3.根據權利要求1或2所述的襯底，其特征在于，所述扇形襯底為半圓型襯底，或1/6圓形襯底。

4.根據權利要求1所述的襯底，其特征在于，當N大于等于3時，所述扇形襯底的圓心角為圓角。

5.根據權利要求1所述的襯底，其特征在于，所述扇形襯底的圓弧兩端的角為圓角。

6.根據權利要求4或5所述的襯底，其特征在于，所述圓角的圓角半徑大于等于1mm。

7.一種用于化學氣相沉積工藝的石墨盤，具有襯底承載面，其特征在于：所述襯底承載面設有用于容置如權利要求1至6任一項權利要求所述的襯底的收容槽，所述收容槽的形狀與所述襯底的形狀對應，用于增大石墨盤的利用率。