[實用新型]一種曝氣效果好的氧化槽

有效

• 申請號: 201320326235.0
• 申請日: 2013-06-07
• 公開（公告）號: CN203295253U
• 公開（公告）日: 2013-11-20
• 發明（設計）人: 范祥榮
• 申請（專利權）人: 蘇州市金翔鈦設備有限公司
• 主分類號: C02F3/02
• 分類號: C02F3/02
• 代理公司: 南京縱橫知識產權代理有限公司 32224
• 代理人: 董建林

技術領域

本實用新型涉及一種化工、冶金領域中的生物氧化設備，尤其涉及一種立式氧化槽。

背景技術

氧化槽為濕法冶煉中的常用設備，其筒體中常設置導流筒來形成筒體內部流體的循環，使物料混合均勻。導流筒中通常還設置有曝氣裝置以促進氣液的物質交換，但現有的氧化槽中僅在導流筒的某一高度設置單一曝氣頭，對于徑向尺寸大、高度尺寸大的氧化槽來說，無法形成有效的、均勻的物質交換。

實用新型內容

本實用新型克服了現有技術的不足，提供一種曝氣徹底、高效，曝氣結構周向位置可調、曝氣效果好的氧化槽。

為達到上述目的，本實用新型采用的技術方案為：一種曝氣效果好的氧化槽，包括上端開口的中空筒體和垂直設于所述筒體內的兩端開口的導流筒，所述筒體和導流筒間留有間隙，所述間隙中填充填料，所述導流筒中還設置有曝氣裝置，其特征在于：所述曝氣裝置包括壓縮空氣管和與所述壓縮空氣管相連通的曝氣頭，所述曝氣裝置還包括至少兩個沿垂直方向分布的盤狀支架，所述盤狀支架上設置若干所述曝氣頭；所述導流筒筒壁上設有與所述盤狀支架對應的環形凹槽，所述盤狀支架的外緣嵌設在所述環形凹槽中。

優選的，所述曝氣裝置包括兩個沿垂直方向分布的盤狀支架，設置在所述盤狀支架上的曝氣頭環形分布。

優選的，所述兩個盤狀支架上設有相同數量的所述曝氣頭，兩個盤狀支架上的對應曝氣頭周向錯位分布。

優選的，所述盤狀支架上的曝氣頭分布呈圓環狀，一個所述盤狀支架上曝氣頭分布形成的所述圓環與另一個所述盤狀支架上曝氣頭分布形成的圓環半徑相等。

優選的，所述的一個盤狀支架在筒體中的設置高度為筒體本身高度的2/5，另一個盤狀支架在筒體中的設置高度為筒體本身高度的3/5。

優選的，所述的兩個盤狀支架中，每個盤狀支架的中部設有一個所述曝氣頭，外周環形設置有六個所述曝氣頭。

本實用新型解決了背景技術中存在的缺陷，本實用新型的氧化槽中設有多個曝氣頭，且曝氣頭分至少兩層設置，增強曝氣效果，利于物料的均勻混合,兩層曝氣頭的周向位置分別可調，進而能自由組合成不同的上下層配合曝氣效果，使得不同情況下可調節獲得最佳的曝氣效果。可以進一步設置每層曝氣頭環形分布，增強導流筒內周向曝氣的均勻度，各層的對應曝氣頭還可以周向錯位分布，在節省曝氣頭的情況下實現周向曝氣的位置互補。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本實用新型進一步說明。

圖1是本實用新型的優選實施例的結構示意圖；

圖2是圖1中第一曝氣結構的俯視圖；

圖3是圖1中第二曝氣結構的俯視圖；

圖4是本實用新型優選實施例中盤狀支架與導流筒連接關系的剖視圖；

圖中：2、筒體，4、導流筒，6、填料，8、曝氣頭，12、第一盤狀支架，14、第二盤狀支架，16、圓環，18、圓環，R1、半徑，R2、半徑，22、環形凹槽，24、環形凹槽，26、壓縮空氣管，28、壓縮空氣管。

具體實施方式

現在結合附圖和實施例對本實用新型作進一步詳細的說明，這些附圖均為簡化的示意圖，僅以示意方式說明本實用新型的基本結構，因此其僅顯示與本實用新型有關的構成。

如圖1-3所示，一種曝氣效果好的氧化槽，包括上端開口的中空筒體2和垂直設于筒體2內的兩端開口的導流筒4，筒體2和導流筒4間留有間隙，間隙中填充填料6，導流筒4中還設置有曝氣裝置，曝氣裝置包括壓縮空氣管和與壓縮空氣管相連通的曝氣頭8，曝氣裝置還包括至少兩個沿垂直方向分布的盤狀支架，盤狀支架上分別設置若干曝氣頭8。導流筒4筒壁上設有與盤狀支架對應的環形凹槽，盤狀支架的外緣嵌設在環形凹槽中。