[實用新型]水泥窯爐SNCR脫硝溫度控制裝置有效
| 申請號: | 201320317205.3 | 申請日: | 2013-06-04 |
| 公開(公告)號: | CN203281218U | 公開(公告)日: | 2013-11-13 |
| 發明(設計)人: | 李國;宋海農;周永信;楊崎峰;黃海師;韋海浪 | 申請(專利權)人: | 廣西博世科環保科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B01D53/79 | 分類號: | B01D53/79;B01D53/56 |
| 代理公司: | 廣西南寧公平專利事務所有限責任公司 45104 | 代理人: | 劉小萍 |
| 地址: | 530007 廣西壯*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 水泥 sncr 溫度 控制 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及一種控制裝置,具體是一種水泥窯爐SNCR脫硝溫度控制裝置。
背景技術
SNCR(Selective?Non-Catalytic?Reduction,SNCR)為選擇性非催化還原脫硝技術,該技術窯爐工程改造量小,又對生產工藝影響小,是目前水泥脫硝最有效的方法之一。現有國內多條水泥生產線SNCR脫硝系統,一般都在水泥分解爐頂部設置若干把噴槍,向其內腔噴射氨水還原劑,隨后,NH3和煙氣中的NOX反應生成N2和H2O,該技術運行不穩定,脫硝效率普遍低于40%。
究其原因,SNCR反應溫度窗口影響脫硝效率的主要因素之一。還原劑噴射區溫度過低和過高都不利于脫硝反應的進行,另外,水泥分解爐中煙氣速度一般在10m/s以上,在該溫度區內反應停留時間有限,即使很小的溫度偏差都會大大降低脫硝效率,增加氨逃逸,增加運行成本高,且易形成二次污染,難以穩定連續地使氮氧化物排放濃度達標排放。
實用新型內容
本實用新型所要解決的技術問題是提供一種水泥窯爐SNCR脫硝溫度控制裝置,以提高脫硝效率,降低氨逃逸率。
本實用新型以如下技術方案解決上述技術問題:
本實用新型水泥窯爐SNCR脫硝溫度控制裝置,分解爐2通過管道與回轉窯1相連,分解爐2通過管道與預熱器4相連,在分解爐2自爐底2/3處以及在分解爐2與預熱器4連接的管道上設有若干把噴槍3,每一把噴槍3開孔處對應安裝有一個溫度檢測探頭6,所有溫度檢測探頭6和噴槍3與中央控制柜相連。
本實用新型水泥窯爐SNCR脫硝溫度控制裝置,所述噴槍3的結構包括壓縮空氣管10、還原劑管道9、流量控制電磁閥7和噴嘴8,還原劑管道9的出口段包裹壓縮空氣管10,壓縮空氣管10與壓縮空氣儲罐連接,還原劑管道9與氨水儲罐連接,還原劑管道9和壓縮空氣管10的出口端形成噴嘴8,流量控制電磁閥7安裝在噴嘴8上,還原劑管道9、壓縮空氣管10和流量控制電磁閥7三者與中央控制柜5連接。
本實用新型水泥窯爐SNCR脫硝溫度控制裝置,在分解爐2自爐底2/3處設置2層的噴槍3,每層對稱設置4把。
本實用新型水泥窯爐SNCR脫硝溫度控制裝置,在分解爐2與預熱器4連接的管道上設置2層的噴槍3,每層對稱設置4把。
本實用新型通過溫度檢測探頭將溫度信息傳入中央控制柜,再通過流量控制電磁閥來控制噴槍的啟閉狀態,實現適時監控SNCR脫硝溫度;并通過采用多點位聯合控制SNCR脫硝溫度,溫度監控適時準確,自動化程度高,脫硝效率超過70%,運行成本低,減少氨逃逸。
附圖說明
圖1是本實用新型水泥窯爐SNCR脫硝溫度控制裝置的總體結構示意圖。
圖2是圖1的A-A剖視示意圖。
圖3是噴槍的結構示意圖。
附圖中的標記為:回轉窯1,分解爐2,噴槍3,預熱器4,中央控制柜5,溫度檢測探頭6,流量控制電磁閥7,噴嘴8,氨水還原劑管9,壓縮空氣管10。
具體實施方式
下面結合附圖和本實施例對本實用新型作進一步描述。
圖1、圖2和圖3給出了本實用新型水泥窯爐SNCR脫硝溫度控制裝置的總體結構示意圖。
分解爐2通過管道與回轉窯1相連,分解爐2通過管道與預熱器4相連,在分解爐2自爐底2/3處以及在分解爐2與預熱器4連接的管道上分別設置有兩層噴槍3,每層對稱設置4把。每一把噴槍3在分解爐2內以及安裝管道內的開孔處對應安裝有一個溫度檢測探頭6,溫度檢測探頭6和噴槍3均與中央控制柜5相連。
所述噴槍3的結構包括壓縮空氣管10、氨水還原劑管道9、流量控制電磁閥7和噴嘴8,氨水還原劑管道9的出口段包裹壓縮空氣管10,壓縮空氣管10與壓縮空氣儲罐連接,氨水還原劑管道9與氨水儲罐連接,氨水還原劑管道9和壓縮空氣管10的出口端形成噴嘴8,流量控制電磁閥7安裝在噴嘴8上,還原劑管道9、壓縮空氣管10和流量控制電磁閥7三者與中央控制柜5連接。
本實用新型還包括氨水儲存系統,多級離心泵、計量分配器,空壓機及其組件,空氣過濾器,就地控制箱及管道閥門等組件。
本實用新型所述噴槍3及其組件、溫度檢測探頭6均采用高溫耐磨耐酸堿材料。
本實用新型所述的噴嘴8在還原劑管與壓縮空氣管之間、氨水腔及空氣腔之間形成混合室。
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