[實(shí)用新型]基于介電泳效應(yīng)的拋光設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320302214.5 | 申請日: | 2013-05-29 |
| 公開(公告)號: | CN203282283U | 公開(公告)日: | 2013-11-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 鄧乾發(fā);周芬芬;呂冰海;袁巨龍;郭偉剛;郁煒;趙萍;厲淦;趙天晨 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | B24B1/00 | 分類號: | B24B1/00 |
| 代理公司: | 杭州天正專利事務(wù)所有限公司 33201 | 代理人: | 王兵;黃美娟 |
| 地址: | 310014 浙*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 電泳 效應(yīng) 拋光 設(shè)備 | ||
1.基于介電泳效應(yīng)的拋光設(shè)備,包括帶有上拋光盤、下拋光盤和工件夾具的拋光機(jī)本體,所述的工件夾具位于所述的上拋光盤與所述的下拋光盤之間的拋光加工區(qū)域,其特征在于:所述的上拋光盤和所述的下拋光盤上分別加裝電極,每個所述的電極面向拋光加工區(qū)域的表面設(shè)置絕緣板,且所述的絕緣板表面粘貼拋光墊;所述的上拋光盤上設(shè)置拋光液注入口;所述的上拋光盤的電極和所述的下拋光盤的電極分別與交流電源連接,所述的交流電源的電流輸入端與調(diào)頻調(diào)壓控制器連接,控制交流電源的電壓與頻率。
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