[實用新型]布氣裝置及其真空磁控濺射鍍膜設備

有效

• 申請號: 201320295747.5
• 申請日: 2013-05-27
• 公開（公告）號: CN203333750U
• 公開（公告）日: 2013-12-11
• 發明（設計）人: 謝建軍
• 申請（專利權）人: 深圳市生波爾機電設備有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287
• 代理人: 胡海國

1.一種布氣裝置，其特征在于，包括主布氣體，其中，所述主布氣體包括均為中空且均通過氣孔連通的一第一主布氣部及至少兩個呈層疊組合的第二主布氣部，其中：

第一主布氣部，其具有至少一個第一進氣孔以及至少兩個第一出氣孔；

第二主布氣部，其層疊組合體與所述第一主布氣部為層疊連接，且與所述第一主布氣部緊鄰的第二主布氣部具有與所述第一出氣孔數量匹配且連通的至少兩個第二進氣孔以及數量多于該第二進氣孔的第二出氣孔，依此類推，遠離第一主布氣部的第二主布氣部具有與前一個第二主布氣部出氣孔數量匹配且連通的進氣孔以及數量多于該當前第二主布氣部進氣孔的若干個出氣孔。

2.如權利要求1所述的布氣裝置，其中，

所述第一主布氣部，其具有一個第一進氣孔以及兩個第一出氣孔；

與所述第一主布氣部緊鄰的第二主布氣部具有兩個與所述第一出氣孔連通的第二進氣孔以及四個第二出氣孔，依此類推，遠離第一主布氣部的第二主布氣部具有與前一個第二主布氣部出氣孔數量匹配且連通的進氣孔以及數量兩倍于該當前第二主布氣部進氣孔的若干個出氣孔。

3.如權利要求2所述的布氣裝置，其中，所述第一主布氣部包括有第一進氣管，其與第一進氣孔連通。

4.如權利要求2所述的布氣裝置，其中，所述第一進氣孔設置于第一主布氣部的中間位置，所述第一出氣孔在第一主布氣部的長度方向上呈均勻布置；設置于第二主布氣部上的出氣孔在第二主布氣部的長度方向上呈均勻布置。

5.如權利要求2所述的布氣裝置，其中，所述第一主布氣部以及第二主布氣部為不銹鋼方管。

6.如權利要求4所述的布氣裝置，其中，還包括布置于主布氣體至少一側邊的從布氣體，所述從布氣體包括均為中空且均通過氣孔連通的一第一從布氣部及至少一個第二從布氣部，所述第一從布氣部具有至少一進氣孔，所述第二從布氣部的出氣孔與所述主布氣體的至少一個第二主布氣部的進氣孔相連通。

7.如權利要求6所述的布氣裝置，其中，所述第一從布氣部包括有第二進氣管，其與第一從布氣部的進氣孔連通。

8.如權利要求6所述的布氣裝置，其中，所述第一從布氣部以及第二從布氣部為不銹鋼方管。

9.一種真空磁控濺射鍍膜設備，包括磁控濺射靶，其特征在于，還包括與所述磁控濺射靶匹配布置的如權利要求1-8任一所述的布氣裝置。