[實用新型]連續式真空蒸發鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201320288748.7
• 申請日: 2013-05-23
• 公開（公告）號: CN203333745U
• 公開（公告）日: 2013-12-11
• 發明（設計）人: 劉潺
• 申請（專利權）人: 深圳市生波爾機電設備有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/56
• 代理公司: 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287
• 代理人: 胡海國

技術領域

本實用新型涉及鍍膜技術領域，尤其是涉及一種連續式真空蒸發鍍膜裝置。

背景技術

真空蒸發鍍膜(簡稱蒸鍍)技術是PVD（物理氣相沉積）技術中發展最早，應用領域很廣的鍍膜技術。其工作原理：將膜材置于真空鍍膜設備的蒸發源（用來加熱膜材使之氣化蒸發的裝置）中，在高真空條件下通過蒸發源加熱膜材使之蒸發形成蒸氣，蒸氣到達被鍍的基材表面后由于基材溫度較低，蒸氣便凝結在基材表面形成薄膜。

目前廣泛應用的是箱式蒸發鍍膜機，這種箱式蒸發鍍膜機主要采用電阻加熱蒸發源和電子束加熱蒸發源（由電子槍和坩堝組成）兩種蒸發源。這種鍍膜機主要包括：真空室、抽氣系統、蒸發源、膜厚測量系統、離子源、加熱器等。

現有的箱式蒸發鍍膜機對基材鍍膜加工的基本流程為：a、裝載（將待蒸鍍的基材裝載至工件架上）；b、上架（將裝好基材的工件架安裝到真空室內）；c、抽氣（關閉真空室大門，通過真空泵對真空室抽氣直至真空壓力值到設定值，如優于10^-2Pa）；d、加熱（對基材加熱直至基材溫度到設定值，另外根據鍍膜要求也可不加熱）；e、離子清洗（旋轉工件架，通過離子源對基材進行清洗，另外根據鍍膜要求也可不清洗）；f、鍍膜（開啟蒸發源實現鍍膜，直至膜厚達到設定值）；g、停機（停止加熱、停止旋轉工件架、真空室放大氣）；h、下架（打開真空室門，將鍍膜后的基材工件架取出）；然后返回第a步執行下一個生產流程。

上述這種箱式蒸發鍍膜機對基材進行鍍膜過程中存在如下問題：

1、由于其按開機-停機-開機的模式循環工作，這種循環過程中不同周期所涉及鍍膜工藝條件如真空壓力、加熱溫度、抽氣速度、室體放氣、室體污染很難每一個工藝條件完全一致，而只有一個工藝條件少有變動，都將導致膜層質量的變化，因此這種鍍膜機生產出來的膜層質量一致性難以得到保證。

2、由于上述這種鍍膜機一般采用油擴散泵+羅茨泵+油封式旋片泵的抽氣系統，油蒸氣對真空室體會有一定的污染，進而會污染膜層品質；另外實際過程中由于想獲得高的真空度環境，抽氣時間會很長，綜合蒸鍍要求和生產效率的考慮，一般控制真空度在10^-2Pa左右，即此時真空室中還殘留有較多的H₂O,CO₂,O₂,N₂,有機蒸氣等氣體，在鍍膜過程中，這些氣體會和蒸發粒子一起被吸附或結合，在薄膜中造成污染，進而影響膜層品質。

實用新型內容

本實用新型的主要目的在于提供一種連續式真空蒸發鍍膜裝置，提高鍍膜效率，保證產品膜層的一致性，防止膜層被雜質氣體污染，獲得品質更優的膜層。

本實用新型提出一種連續式真空蒸發鍍膜裝置，包括：鍍膜室、工件架和膜料架；

所述鍍膜室一端連通第一過渡室，另一端連通第二過渡室；

所述第一過渡室、鍍膜室、第二過渡室內分別設有傳輸所述工件架的第一軌道和傳輸所述膜料架的第二軌道；

所述第一過渡室兩端和第二過渡室兩端分別設有可開關的用于隔離氣體的插板閥；

所述第一過渡室、鍍膜室、第二過渡室分別配置有獨立的抽氣系統。

優選地，所述第一過渡室的第一軌道與鍍膜室的第一軌道由置納插板閥的空隙隔離，二者延長部分相互重疊；鍍膜室的第一軌道和第二過渡室的第一軌道由置納插板閥的空隙隔離，二者延長部分相互重疊；

所述第一過渡室的第二軌道與鍍膜室的第二軌道由置納插板閥的空隙隔離，二者延長部分相互重疊；鍍膜室的第二軌道和第二過渡室的第二軌道由置納插板閥的空隙隔離，二者延長部分相互重疊。

優選地，所述第一過渡室包括：上第一過渡室，與上第一過渡室連通的下第一過渡室；上第一過渡室內設有所述第一軌道；所述下第一過渡室內設有所述第二軌道；

所述第二過渡室包括：上第二過渡室，與上第二過渡室連通的下第二過渡室；上第二過渡室內設有所述第一軌道；所述下第二過渡室內設有所述第二軌道。

優選地，所述插板閥包括：上插板閥和下插板閥；

所述上第一過渡室兩端和上第二過渡室兩端設置有上插板閥；

所述下第一過渡室兩端和下第二過渡室兩端設置有下插板閥。

優選地，所述第一軌道包括：第一滑輪，該第一滑輪的一側設置有第一齒輪；

所述工件架包括：工件架本體，該工件架本體的頂部設置有與所述第一滑輪適配的第一滑塊，該第一滑塊一側設有與所述第一齒輪嚙合的第一齒條。