[實(shí)用新型]適配于運(yùn)動(dòng)鞋的扁平足氣囊足弓墊有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320288467.1 | 申請(qǐng)日: | 2013-05-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN203291096U | 公開(公告)日: | 2013-11-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 不公告發(fā)明人 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 王清生;張明軍;劉青健;陳空清;林立新;吳冰 |
| 主分類號(hào): | A61F5/14 | 分類號(hào): | A61F5/14 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 351100 福建省莆田*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 運(yùn)動(dòng)鞋 扁平足 氣囊 足弓 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
????本實(shí)用新型涉及運(yùn)動(dòng)鞋領(lǐng)域,尤其涉及一種適配于運(yùn)動(dòng)鞋的扁平足氣囊足弓墊。
背景技術(shù)
扁平足的足弓降低,常伴有前足外展、后足外翻,在步態(tài)周期中,后足外翻畸形使內(nèi)翻作用喪失,足弓在步態(tài)推進(jìn)活動(dòng)中不能發(fā)揮堅(jiān)強(qiáng)的杠桿作用,導(dǎo)致步態(tài)異常。
實(shí)用新型內(nèi)容
鑒于上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺點(diǎn),本實(shí)用新型的目的是提供一種結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、能適應(yīng)異常足弓的適配于運(yùn)動(dòng)鞋的扁平足氣囊足弓墊。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的,所述的適配于運(yùn)動(dòng)鞋的扁平足氣囊足弓墊,包括全掌氣墊,全掌氣墊的中間有凸起的足弓部位,其特點(diǎn)為所述的足弓部位包括上層的氣囊、中間的彈性層和底部的支撐層,上層的氣囊連接中間的彈性層,中間的彈性層連接底部的支撐層。
本實(shí)用新型的特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)是:1)本實(shí)用新型專門設(shè)計(jì)的全掌扁平足的足弓墊,能適應(yīng)異常足弓力學(xué)變化,具有促進(jìn)矯正和康復(fù)功能。通過(guò)測(cè)量、分析扁平足足弓運(yùn)動(dòng)的生物力學(xué)特征,進(jìn)行運(yùn)動(dòng)學(xué)、動(dòng)力學(xué)測(cè)量、分析,借助于數(shù)值建模和有限元分析,建立中國(guó)國(guó)民扁平足足底運(yùn)動(dòng)特點(diǎn)與壓力分布特征(壓力及步態(tài)特征)數(shù)據(jù)庫(kù)和扁平足數(shù)字模型。利用力學(xué)模型構(gòu)建出扁平足足底在平跟和提踵狀態(tài)下受力情況,分析足底曲面的橫向和縱向曲線的變化趨勢(shì),通過(guò)壓力平臺(tái)和鞋墊壓力系統(tǒng)對(duì)雙腳腳底壓力的分布、運(yùn)動(dòng)過(guò)程中腳底壓力、沖量、腳底受力時(shí)間的變化進(jìn)行檢測(cè)、分析,獲得扁平足扁平足足弓墊生產(chǎn)的基本參數(shù)。2)在本實(shí)用新型的扁平足足弓墊設(shè)計(jì)、開發(fā)過(guò)程中,設(shè)計(jì)與足弓面相符合的足弓墊,選擇高壓密閉氣囊作為填充,使全掌扁平足足弓氣墊能夠最大限度地發(fā)揮矯正、支撐作用,適配于運(yùn)動(dòng)鞋,減緩扁平足足弓疲勞的發(fā)生,為矯正前足外展和后足外翻提供了力學(xué)基礎(chǔ),為行走創(chuàng)造有利條件,達(dá)到促進(jìn)矯正和康復(fù)功能。
附圖說(shuō)明
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為圖1中的足弓部位的立體結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為圖2的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖中:全掌氣墊1,足弓部位2,氣囊3,彈性層4,支撐層5。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明:
如附圖所示,本實(shí)用新型的適配于運(yùn)動(dòng)鞋的扁平足氣囊足弓墊,包括全掌氣墊1,全掌氣墊其形狀為同大底的輪廓形狀,全掌氣墊的中間有凸起的足弓部位2,其結(jié)構(gòu)特點(diǎn)為所述的足弓部位2包括上層的氣囊3、中間的彈性層4和底部的支撐層5,上層的氣囊3連接中間的彈性層4,中間的彈性層4連接底部的支撐層5。
依據(jù)本實(shí)用新型的全掌氣墊的中間凸起的足弓部位的氣囊3的氣室厚度、氣室壁厚之和,設(shè)計(jì)本實(shí)用新型的三款扁平足氣囊足弓墊,氣室厚度大約10-25mm,氣室壁厚?1-1.4mm,較軟,回彈性高;與腳直接接觸,舒適性體會(huì)明顯,以滿足不同扁平足需求。其具體款式如下:
全掌氣墊款式一:氣囊3的氣室厚度大約25mm,?上壁厚?1.2mm,整體厚度大約26.2mm,適用于輕度扁平足。
全掌氣墊款式二:氣囊3的氣室厚度大約20mm,上壁厚?1.2mm,整體厚度大約21.2mm,適用于中度扁平足。
全掌氣墊款式三:氣囊3的氣室厚度大約15mm,上壁厚?1.2mm,整體厚度大約16.2mm,適用于重度扁平足。
在氣囊3下面的輔助墊(形狀與全掌氣墊下部凹陷部分一致),厚度2-3?mm,分為兩層,即彈性層,選用彈性材料,輔助全掌氣墊的緩沖功能;底部的支撐層,選用較硬材料,起支撐作用,維持扁平足氣囊足弓墊穩(wěn)定性。可以黏貼于全掌氣墊下部凹陷部分內(nèi),用于細(xì)微調(diào)整全掌氣墊與足弓適合度。
本實(shí)用新型的全掌氣墊表面采用布質(zhì)面料,全掌氣墊上面設(shè)計(jì)網(wǎng)狀溝槽,利于排汗、散熱。
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